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世界最大的半导体代工订单卡尔蔡司封闭循环面膜修复32nm节点和验证解决方案

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

世界最大的半导体代工从台湾放在面膜缺损的修复系统的优点合并秩序®小时32和空中的图像测量系统的目的是从卡尔蔡司™ 32 - 193i下一代高端光掩膜生产准备。

AIMS 32 - 193i和优异小时32使在32nm节点及以后生产的零缺陷光掩膜。

“作为我们的客户具有战略性投资,以确保零缺陷为即将到来的32和22nm节点的光掩模生产的最先进的铸造厂之一。对于引进的下一个技术节点新一代的宗旨和考绩制度的重要组成部分,以确保制造高品质的光掩膜零缺陷。“博士解释说,短信卡尔蔡司SMT部董事总经理奥利弗KIENZLE。

去年,卡尔蔡司推出32nm节点面具资格和修复系统。 “AIMS和优异完善的市场作为一个无缺陷的口罩,特别是在65nm和45nm节点,的闭环解决方案。与主要客户密切合作,我们可以开发更多的先进技术,以获得强大的下一代系统。“KIENZLE继续。他强调,客户特别欣赏的目标32 - 193i完全灵活的照明方案和新的高稳定性优异小时32系统可扩展到包括EUV技术的未来技术平台的概念。

电子束面具修复系统的优点HR32采用了两个并行的战略,以满足32纳米光刻的要求。在分辨率和贴装精度方面所需的维修质量问题由一种新型的电子束平台,其中包括积极控制的微环境。此功能提供了一个高水平的热和机械稳定性。增强电子束的过程中,一个灵活的,高能力的过程中供气系统的协助下,提高蚀刻稳定和最低的修复大小。此外,它使新的和具有挑战性的面具像OMOG型和EUV面罩技术。优异的技术,建立与目标的闭环解决方案,共同为缺损的修复和维修核查™。新的目标是32 - 193i支持32纳米光刻技术,如双图形技术,源面具优化和计算光刻准确的仿真。

根据卡尔蔡司广泛的专业知识与扫描仪的镜头技术系统,确保扫描仪般的新利托®级光学成像性能。一个先进的照明系统使193nm的照明设置各种仿真。历史上首次在目标的照明瞳孔段变速现已与AIMS 32 - 193i。

Last Update: 20. October 2011 03:08

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