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Veeco TurboDisc GaN MOCVD-System von Korean Unternehmen ausgewählt

Published on April 26, 2010 at 8:17 PM

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) , gab heute bekannt, dass Seoul Optodevice Co., Ltd (SOC) von Korea hat Veeco TurboDisc (R) K465i (TM) Gallium-Nitrid (GaN) Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) System gewählt zum Ausbau ihrer Fertigungskapazitäten von High-Brightness-Leuchtdioden (HB-LEDs). Neben Aufträgen in 2009 platziert, platziert SOC ein Multi-Tool, um im zweiten Quartal 2010, mit allen Werkzeugen zur Zeit für den Transport im Jahr 2010 geplant.

Seyong Oh, Ph.D., CEO von SOC, kommentierte: "Wir haben mit Veeco hohe Produktivität MOCVD-Systeme in unseren Fertigungsstätten mit großem Erfolg. Dieser neue Auftrag stellt sicher, dass wir auch weiterhin Leistung unserer marktführenden HB LEDs zu erhöhen mit der branchenweit höchsten Renditen. Wir haben unser Unternehmen positioniert, um ein Weltklasse-LED-Anbieter auf das Wachstum unseres Geschäfts in LEDs für Displays, Automobil-, mobile und allgemeine Beleuchtungsanwendungen. Wir glauben, dass Veeco MOCVD-Anlagen das niedrigste Angebot fokussiert werden cost-of- Eigentum Tools auf dem Markt, und ihre Unterstützung ist hervorragend. "

Bill Miller, Ph.D., Senior Vice President, General Manager von Veeco MOCVD kommentierte: "Wir freuen uns, dass SOC ihre HB-LED Kapazitäten mit unseren MOCVD-Anlagen Rampe, die Fortsetzung unserer langjährigen Partnerschaft. Der jüngste Auftrag von einem Top- LED-Hersteller ist ein weiterer Beweis für wachsenden Markt Veeco-Aktie, vor allem in Korea, wo wir sind der führende Anbieter von MOCVD-Anlagen. "

Mit überlegener Wellenlänge Einheitlichkeit und gute Lauf-to-run Wiederholbarkeit, erstreckt sich die Produktion bewährte K465i Veeco führen in Kapitaleffizienz - die Anzahl der guten Wafern pro Tag für jede Hauptstadt-Dollar - für hohe Volumen LED-Hersteller. Das K465i bietet Ease-of-Tuning für die schnelle Prozessoptimierung auf Wafer-Größen bis 8 Zoll und schnelles Werkzeug Erholungszeit nach der Wartung.

Last Update: 13. November 2011 17:08

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