Veeco Recibe las Pedidos para los Sistemas Múltiples del MOCVD de TurboDisc GaN de la Génesis Photonics

Published on April 26, 2010 at 8:29 PM

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO), anunciado hoy que ha recibido las órdenes para TurboDisc múltiple (R) Sistemas Orgánicos de la Deposición de Vapor Químico del Metal del nitruro del galio de K465i (TM) (GaN (MOCVD)) de Genesis Photonics Inc. (GPI), establecido jefatura en Taiwán, durante el primer trimestre de 2010. GPI utilizará los sistemas para aumentar la capacidad para la producción de diodos electroluminosos de la alta brillantez (HB LED) que son impulsados en aplicaciones tales como hacer excursionismo, iluminación, visualizaciones, y aplicaciones automotores.

David Chungkin, Presidente y CEO de GPI, comentó, “Nosotros ha estado muy contento con el funcionamiento probado producción de los sistemas del MOCVD de Veeco instalados ya en nuestra instalación industrial. Nos están ayudando a lograr brillantez más arriba que el promedio del sector. Era natural que seleccionemos los Sistemas del MOCVD de K465i para nuestras demandas cada vez mayores de la capacidad.”

Bill Miller, Ph.D., Vicepresidente, Director General de las Operaciones del MOCVD de Veeco comentó “El K465i da a GPI la tecnología para superar sus objetivos del mapa itinerario de la brillantez del LED, y también proporciona a la industria más barata de propiedad, de alta productividad y de rendimientos de la mejor-en-clase.”

Con uniformidad superior de la longitud de onda y repetibilidad excelente de la corrida-a-corrida, el K465i producción-probado extiende el terminal de componente en rentabilidad del capital - el número de Veeco de buenos fulminantes por el día para cada dólar de capital - para los fabricantes en grandes cantidades del LED. El K465i proporciona a facilidad-de-sintonizar para la optimización de proceso rápida en tallas del fulminante hasta 8 pulgadas y tiempo de recuperación rápido de la herramienta después de mantenimiento.

Last Update: 12. January 2012 22:20

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