Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Nieuwe Systemen voor het Onderzoek van Materialen en de Inspectie van de Kwaliteit

Published on May 3, 2010 at 7:41 PM

Bij CONTROLE 2010 dat in Stuttgart vanaf 4-7 Mei, 2010 moet worden gehouden, zal Carl Zeiss zijn nieuwe en bewezen systeemoplossingen voor materialenonderzoek, kwaliteitsinspectie en routinetoepassingen introduceren.

De Groep van de Metrologie van Carl Zeiss Industriële zal hoge precisie metend systemen voorstellen. De bezoekers aan de tentoonstelling verwachten op maat gemaakte procesoplossingen, b.v. voor leveranciers en fabrikanten in de autoindustrie. De Verdere nieuwe hardware en softwareproducten laten aanzienlijke verbeteringen van het meten van prestaties toe. U kunt details over de innovaties van deze commerciële groep in www.zeiss.de/imt vinden.

De Groep van de Microscopie zal oplossingen voor het onderzoek van grote steekproeven, zoals zonnecellen, wafeltjes of vlak paneelvertoningen tonen, gebruikend tegenover elkaar stellende technieken. De Nieuwe producten zullen ook voorgesteld worden voor gebruik in metallografie, inspectietaken in productie en voor de polarisatiemicroscopie. De Nieuwe leiden-Gebaseerde toebehoren zijn beschikbaar voor stereomicroscopes.

Voor de dwars-systeemmicroscopie, zal een platform voor de correlatieve microscopie in materialenanalyse worden voorgesteld die tot een verband tussen een licht en een aftastenelektronenmicroscoop leidt.

U kunt gedetailleerde informatie over de de microscoopsystemen en oplossingen in www.zeiss.de/control-pr vinden.

Last Update: 12. January 2012 22:39

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit