AIXTRON 从 Tyndall 国民学院收到接近的耦合的淋浴喷头 MOCVD 系统的订单

Published on May 10, 2010 at 3:11 AM

AG AIXTRON 今天宣布了一个接近的耦合的淋浴喷头 MOCVD 系统的指令从 Tyndall 国家学院,根据在大学学院黄柏 (UCC),爱尔兰。 这份订单在第四季度收到了 2009年,并且这个系统在 2010年的上半年将被提供在 3x2 英寸薄酥饼配置。

彼得 Parbrook 教授,被任命在 Tyndall 国家学院导致 GaN 增长活动使用有战略意义的资助从科学基础爱尔兰,评论: “从我们现有的 AIXTRON 反应器我们熟悉十分性能和设计的质量可用对他们的工具。 有许多原因为什么我们选择了我们的 GaN 程序的一台 CCS 反应器: 例如包括空白调整的灵活的反应器配置。 正我们可以与不同的基体范围一起使用的范围配合我们的多种研究计划。 固有地,工具也有高效成长均一,并且我们盼望使用阿格斯高温测定的系统产生我们精确度原地监控和程序控制”。 增长工具在 GaN 光子的材料的原理上将补充 Tyndall 的现有的专门技术,并且 GaN 的制造根据设备。

由局部 AIXTRON 流动代课教师组的按照的安装新的系统将用于支持在先进的 GaN 技术的工作。 这包括 GaN/(Al, Ga) 基于 N 的材料增长光电子和微电子学设备的有一个重点的在 AlGaN 结构高温增长。

Tyndall 国家学院, UCC 是其中一个欧洲的主导的研究中心,专门化 ICT 硬件技术的研究、商品化和下一代研究员的教育。 学院有于质量研究和技术的商品化集中的 370 根研究员、工程师、学员和支撑杆临界质量通过行业协作。 Tyndall 在通信,能源、健康和环境关键区解决技术挑战,提供解决方法,跨过研究从原子到在 photonics 的系统,微系统和微型nanoelectronics。 这个研究由一个严格的专门技术在原理上返回,塑造和设计和一个薄酥饼制造设备以 CMOS、 III-V 和 MEMS 功能。

这个术语关闭耦合的 Showerhead® 是注册商标。

Last Update: 12. January 2012 21:17

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit