Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

JSR Samarbejde med Sematech hjælper til at øge Nanoelektronik Innovations

Published on May 12, 2010 at 7:42 AM

Sematech, et globalt konsortium af chip-producenter, og JSR Corporation, en avanceret materialer leverandør til chip-beslutningstagere og andre, og den amerikanske operation, meddelte JSR Micro, Inc. i dag, at det er blevet det nyeste medlem af Sematech er Modstå Materialer og Development Center ( RMDC) på College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) af universitetet i Albany.

JSR vil samarbejde med Sematech ingeniører på centrale modstå spørgsmål i ekstrem ultraviolet lys (EUV) litografi. Fokusområder vil omfatte:

  • Arbejde for at reducere eller eliminere linje kant ruhed (LER) i litografiske billeder under 22 nm
  • Discovering ultimative opløsning af nyligt formulerede fotoresister
  • Test forskellige imaging materialer til EUV følsomhed

Sematech og JSR har indgået et partnerskab tidligere i adskillige teknologiske udviklingsprogrammer, herunder 300 mm testskiver, lav-k film, og avancerede modstår, herunder dobbelt eksponering materialer.

"Vi har en vellykket historie partnerskab med Sematech, og vi er glade for at fortsætte denne historie inden for EUV," sagde Hozumi Sato, adm. direktør i JSR Corporation, der er ansvarlig for forskning og udvikling. "Ved at kombinere ressourcer til at skabe næste generation af EUV materialer er ikke kun godt for JSR og Sematech, men vil være til gavn for branchen som helhed."

"Vi ser frem til at arbejde med JSR i vores fælles bestræbelser på at udvikle førende modstår og materialer, og fremskynde processen ledighed EUV styreledningernes produktion," siger John Warlaumont, vice president for Advanced Technology på Sematech. "Vores gode erfaringer med vores tidligere partnerskaber vil bidrage betydeligt til RMDC effektivitet."

"Tilføjelsen af ​​JSR til arbejdstidens placering af globale selskaber på CNSE er Albany NanoTech Complex vil yderligere styrke Sematech-CNSE partnerskab i kørsel førende nanoelektronik innovationer," siger Richard Brilla, CNSE Vice President for strategi, alliancer og konsortier. "Dette samarbejde gør det muligt for fremskridt på en lang række teknologier, herunder EUV litografi, der er afgørende for industrien."

Kilde: http://www.sematech.org/

Last Update: 16. October 2011 21:44

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit