La Collaboration de JSR avec des Aides de SEMATECH Pour Piloter des Innovations de Nanoelectronics

Published on May 12, 2010 at 7:42 AM

SEMATECH, un consortium global de fabricants de circuits intégrés, et JSR Corporation, un fournisseur de matériaux avancés aux puce-générateurs et à d'autres, et son fonctionnement des États-Unis, JSR Micro, Inc. ont annoncé aujourd'hui que c'est allé bien au membre le plus neuf de SEMATECH Résistent aux Matériaux et au Centre de Développement (RMDC) à l'Université du Scientifique et Technique de Nanoscale (CNSE) de l'Université à Albany.

JSR collaborera avec des ingénieurs de SEMATECH sur la clé résiste à des délivrances en lithographie ultra-violette (EUV) extrême. Les Domaines cibles comprendront :

  • Fonctionner pour réduire ou éliminer la ligne affilent la rugosité (LER) dans des images lithographiques en-dessous de 22 nanomètre
  • Découverte de la définition éventuelle des vernis photosensibles neuf préparés
  • Matériaux variés de Test de représentation pour la sensibilité d'EUV

SEMATECH et JSR partnered précédemment dans plusieurs programmes de développement des technologies, y compris des disques de test de 300 millimètres, les films faibles-k, et avancé résiste, y compris des matériaux de double exposition.

« Nous avons une histoire réussie de partenariat avec SEMATECH et nous sommes excités pour continuer cette histoire dans le domaine d'EUV, » a dit Hozumi Sato, directeur général de JSR Corporation, responsable de la Recherche et développement. La « Combinaison des moyens pour produire le prochain rétablissement des matériaux d'EUV est non seulement bonne pour JSR et SEMATECH, mais bénéficiera l'industrie dans son ensemble. »

« Nous attendons avec intérêt de fonctionner avec JSR dans notre effort mutuel pour développer de pointe résiste et des matériaux, et accélère la disponibilité de processus pour la ligne pilote d'EUV fabrication, » a dit John Warlaumont, vice président de Technologie De Pointe à SEMATECH. « Notre expérience réussie de nos partenariats précédents contribuera grand à l'efficacité de RMDC. »

« L'ajout de JSR au rôle des compagnies globales au Composé de Nanotechnologie d'Albany de CNSE augmentera davantage le partenariat de SEMATECH-CNSE en pilotant les innovations de pointe de nanoelectronics, » a dit Richard Brilla, Vice Président de CNSE pour la Stratégie, les Alliances et les Consortiums. « Cette collaboration active des avances dans une foule de technologies, y compris la lithographie d'EUV, qui sont critiques à l'industrie. »

Source : http://www.sematech.org/

Last Update: 12. January 2012 08:41

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