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La Collaborazione di JSR con le Guide di SEMATECH Per Determinare le Innovazioni di Nanoelectronics

Published on May 12, 2010 at 7:42 AM

SEMATECH, un consorzio globale dei chipmaker e JSR Corporation, un fornitore dei materiali avanzati ai produttori di chip e ad altri e la sua operazione degli Stati Uniti, JSR Micro, Inc. hanno annunciato oggi che ha stato bene al più nuovo membro di SEMATECH Resiste ai Materiali ed al Centro di Sviluppo (RMDC) all'Istituto Universitario di Scienza di Nanoscale e di Assistenza Tecnica (CNSE) dell'Università a Albany.

JSR collaborerà con gli ingegneri di SEMATECH sul tasto resiste alle emissioni in litografia ultravioletta (EUV) estrema. Le aree del Fuoco includeranno:

  • Il Lavoro per diminuire o eliminare la riga orla la rugosità (LER) nelle immagini litografiche inferiore a 22 nanometro
  • Scoperta della risoluzione ultima dei photoresists recentemente formulati
  • Vari materiali Difficili di rappresentazione per la sensibilità di EUV

SEMATECH e JSR partnered precedentemente in parecchi programmi di sviluppo tecnologico, compreso i wafer della prova da 300 millimetri, pellicole basse-K ed avanzato resiste a, compreso i materiali della doppia esposizione.

“Abbiamo una riuscita cronologia dell'associazione con SEMATECH e siamo eccitati per continuare quella cronologia nel campo di EUV,„ ha detto Hozumi Sato, amministratore delegato di JSR Corporation, responsabile di Ricerca e sviluppo. “Combinare le risorse per creare la generazione seguente di materiali di EUV è non solo buona per JSR e SEMATECH, ma avvantaggierà l'industria complessivamente.„

“Stiamo aspettando con impazienza di lavorare con JSR nel nostro sforzo reciproco per sviluppare avanzato resistiamo a e materiali ed acceleriamo la disponibilità trattata per il cavo pilota fabbricazione di EUV,„ ha detto John Warlaumont, vice presidente di Tecnologia Avanzata a SEMATECH. “La Nostra riuscita esperienza di nostre associazioni precedenti contribuirà notevolmente all'efficacia di RMDC.„

“L'aggiunta di JSR al ruolo delle società globali al Complesso di Albany NanoTech di CNSE più ulteriormente migliorerà l'associazione di SEMATECH-CNSE nel determinare le innovazioni avanzate di nanoelectronics,„ ha detto Richard Brilla, Vicepresidente di CNSE per Strategia, le Alleanze ed i Consorzi. “Questa collaborazione sta permettendo agli avanzamenti in una miriade di tecnologie, compreso la litografia di EUV, che sono critiche all'industria.„

Sorgente: http://www.sematech.org/

Last Update: 12. January 2012 08:45

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