SEMATECH, um consórcio global de fabricantes de chips, e JSR Corporaçõ, um fornecedor dos materiais avançados aos fabricantes de chips e a outro, e sua operação dos E.U., JSR Micro, Inc. anunciaram hoje que assentou bem no membro o mais novo de SEMATECH Resiste Materiais e Centro de Revelação (RMDC) na Faculdade da Ciência de Nanoscale e da Engenharia (CNSE) da Universidade em Albany.
JSR colaborará com os coordenadores de SEMATECH na chave resiste edições na litografia ultravioleta (EUV) extrema. As áreas do Foco incluirão:
- Trabalhar para reduzir ou eliminar a linha afia a aspereza (LER) em imagens litográficas abaixo de 22 nanômetro
- Descobrindo a definição final de fotoresistente recentemente formulados
- Vários materiais de Teste da imagem lactente para a sensibilidade de EUV
SEMATECH e JSR partnered previamente em diversos programas de revelação da tecnologia, incluindo bolachas do teste de 300 milímetros, baixos-k filmes, e avançado resiste, incluindo materiais da exposição dobro.
“Nós temos uma história bem sucedida da parceria com SEMATECH e nós somos entusiasmado continuar essa história no campo de EUV,” disse Hozumi Sato, director administrativo de JSR Corporaçõ, responsável para a Investigação e Desenvolvimento. “Combinar recursos para criar a próxima geração de materiais de EUV é não somente boa para JSR e SEMATECH, mas beneficiará a indústria no conjunto.”
“Nós estamos olhando para a frente ao trabalho com o JSR em nosso esforço mútuo para desenvolver a vanguarda resistimos e materiais, e aceleramos a disponibilidade do processo para a linha piloto fabricação de EUV,” disse John Warlaumont, vice-presidente de Tecnologia Avançada em SEMATECH. “Nossa experiência bem sucedida em nossas parcerias precedentes contribuirá extremamente à eficácia de RMDC.”
“A adição de JSR à lista de empresas globais no Complexo da Albany NanoTech de CNSE aumentará mais a parceria de SEMATECH-CNSE em conduzir inovações do nanoelectronics da vanguarda,” disse Richard Brilla, Vice-presidente de CNSE para a Estratégia, as Alianças e os Consórcios. “Esta colaboração está permitindo avanços em um anfitrião das tecnologias, incluindo a litografia de EUV, que são críticas à indústria.”
Source: http://www.sematech.org/