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JSR的与SEMATECH联盟的合作,有助于推动纳米电子的创新

Published on May 12, 2010 at 7:42 AM

SEMATECH联盟,全球的芯片制造商JSR公司,财团,和一个先进的材料供应商,芯片制造商和其他人,其美国业务,JSR Micro公司今天宣布,它已成为SEMATECH的最新成员抵制材料发展中心( RMDC)大学奥尔巴尼分校纳米科学与工程学院(CNSE)学院。

JSR将与SEMATECH联盟的关键工程师抵制极端紫外线(EUV)光刻问题。重点领域将包括:

  • 工作,以减少或消除在22纳米以下的光刻图像的线边缘粗糙度(LER)
  • 发现新制定的光致抗蚀剂的最终解决
  • 测试EUV技术灵敏度的各种成像材料

SEMATECH和JSR合作,以前在一些技术的发展方案,包括300毫米的测试晶圆,低k薄膜,和先进的抵制,包括双重曝光材料。

“我们有成功的历史与SEMATECH联盟的伙伴关系,我们很高兴能继续在EUV技术的领域,历史,说:”穗积佐藤,JSR公司,负责研究和开发的董事总经理。 “整合资源,以创造下一代的EUV材料是JSR和SEMATECH联盟不仅好,而且将有利于整个行业。”

“,”我们期待着我们共同的努力,发展领先的抵制和材料,并加速EUV试生产线制造过程的可用性与JSR工作,SEMATECH联盟先进技术的副总裁约翰说Warlaumont。 “我们在我们以前的合作伙伴关系的成功经验,将大大有助于RMDC的有效性。”

“除了CNSE的奥尔巴尼纳米技术复杂的全球性公司名册的JSR将进一步加强在SEMATECH联盟 - CNSE合作伙伴关系,推动领先的纳米电子学的创新,说:”理查德Brilla,CNSE副总裁战略联盟和财团。 “此次合作是有利的EUV光刻技术,这是行业的关键技术,包括在主机的进步。”

来源: http://www.sematech.org/

Last Update: 10. October 2011 08:37

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