Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanolithography

Παγκόσμια εμπειρογνώμονες για να συζητήσουν την ανάπτυξη Λιθογραφία σε Litho SEMATECH του Forum

Published on May 25, 2010 at 1:35 AM

Στο Litho SEMATECH του Φόρουμ, Μάιος 10-12, τους ηγέτες των επιχειρήσεων ημιαγωγών και ειδικούς της τεχνολογίας κέρδισε πολύτιμες πληροφορίες σχετικά με τις αντιλήψεις του κλάδου σχετικά με τις προθέσεις και για την ανάπτυξη της λιθογραφίας.

Το Φόρουμ, μια τριήμερη συγκέντρωση της παγκόσμιας εμπειρογνώμονες λιθογραφία, εμφανίζεται ένα εντυπωσιακό line-up των ανώτερων στελεχών και τεχνικών εμπειρογνωμόνων στον κλάδο των ημιαγωγών, που κοινές προοπτικές όσον αφορά τους οποίους η συνεργασία είναι επιτακτική ανάγκη για την καινοτομία ημιαγωγών και ποιες προκλήσεις στην ανάπτυξη της επόμενης γενιάς τεχνολογίες πρέπει να αντιμετωπίσουμε για να κάνουν επιτυχημένη λιθογραφία.

"Η θεμελιώδης για την ανάπτυξη της βιομηχανίας είναι η βελτίωση του κόστους ανά λειτουργία», δήλωσε ο Dan Armbrust, πρόεδρος και διευθύνων σύμβουλος της SEMATECH. "Για τη βιομηχανία να εξελιχθεί, τα επιχειρηματικά μοντέλα πρέπει να λαμβάνουν υπόψη συνεργασίες για τον έλεγχο του κόστους και την επέκταση υφιστάμενων τεχνολογιών, με παράλληλη αξιοποίηση της υποδομής για μελλοντικές λύσεις."

"Λιθογραφία είναι η ραχοκοκαλιά της βιομηχανίας ημιαγωγών, και θα είναι η κινητήρια δύναμη για τις μελλοντικές ευκαιρίες εφαρμογή και την ανάπτυξη των επιχειρήσεων», δήλωσε ο Bryan Ράις, διευθυντής της λιθογραφίας σε SEMATECH. "Οι πληροφορίες που προκύπτουν και η καθοδήγηση από Φόρουμ φετινή θα είναι πολύτιμη στην προσπάθεια SEMATECH μέλη επεκτείνουν τις τρέχουσες τεχνολογίες, την κατασκευή υποδομών για τις αναδυόμενες αυτές, και να ξεπεράσει τις τεχνικές και το κόστος προκλήσεις της επόμενης γενιάς λιθογραφία."

Βασικά σημεία της του Φόρουμ περιλαμβάνονται τα ακόλουθα:

  • Κεντρικός ομιλητής ο Gary Patton της IBM επικεντρώθηκε στην ανάγκη για συνεργασία της βιομηχανίας και της καινοτομίας για να συνεχίσει τον χάρτη πορείας προς τα εμπρός και επεσήμανε τη συνεργασία SEMATECH για τις υποδομές EUV ως ένα καλό παράδειγμα του είδους της συνεργασίας καινοτομία για να καταστήσουμε EUV συμβεί.
  • Παρουσιαστές από την IBM, TSMC, Tokyo Electron Limited, και GLOBALFOUNDRIES επανεξέτασε τη σημερινή κατάσταση της λιθογραφίας και οι δραστηριότητες υποστήριξης επιλογές λιθογραφία, συμπεριλαμβανομένων EUV εισαγωγής, προκλήσεις επιθεώρηση μάσκα, διπλή ανάπτυξη της διαδικασίας σχηματομόρφωσης, πολλαπλά e-beam αποφάσεις για 22 nm και υπο-22 nm , και τη συνολική ετοιμότητα εργαλείο.
  • Εξοπλισμός και υλικό προμηθευτές τόνισε ότι το συνολικό κόστος ανάπτυξης και τη μείωση του κινδύνου πρέπει να ασφαλίζονται με την εξασφάλιση ότι η ανάπτυξη προχωρεί με ρυθμούς συμβατή με τη μάσκα EUV αντισταθεί και υποδομές.

Επιπλέον, περισσότεροι από 130 συμμετέχοντες ρωτήθηκαν σχετικά με τα σχέδια και τις προτιμήσεις τους για λιθογραφικές προσεγγίσεις για τη μελλοντική παραγωγή. Βασικά αποτελέσματα της έρευνας περιλαμβάνονται τα ακόλουθα:

  • Όπως εντοπιστεί σε προηγούμενα Φόρουμ, 193 nm βύθιση διπλό σχηματομόρφωσης εξακολουθεί να είναι η κατάλληλη τεχνολογία λιθογραφίας για όγκου παραγωγής το 2012.
  • Ενώ μερικοί κατασκευαστές θα χρησιμοποιήσουν την τεχνολογία νωρίτερα, EUV θα πρέπει να μπορεί να τοποθετηθεί σε κατασκευή το 2014, με την επεκτασιμότητα σε παραγωγή το 2016.
  • Για βύθιση διπλό σχηματομόρφωσης, κόστος ιδιοκτησίας, τη δυνατότητα επικάλυψης, και επεκτασιμότητα για την επόμενη γενιά της συσκευής είναι ακόμα στην κορυφή προκλήσεις.
  • Για EUV τεχνολογία, ελαττώματα μάσκα, πηγή ενέργειας, η έκθεση απόδοσης εργαλείο, και το κόστος ιδιοκτησίας κρίθηκαν στην κορυφή προκλήσεις.
  • 193 nm και EUV επελέγησαν ως οι τεχνολογίες που θα μπορούσαν να ληφθούν υπόψη για την κατασκευή κατά τις 32 κόμβο nm και πέρα.

Με έναν κύκλο βιομηχανία των περίπου δύο χρόνια ανά κόμβο λιθογραφία, ανά διετία Φόρουμ SEMATECH του Litho παρέχει μια ευκαιρία για τους χρήστες και τους προμηθευτές λιθογραφία για την αξιολόγηση της προόδου των διαφόρων επιλογών της τεχνολογίας. Η προηγούμενη Forums βοήθησε στο συντονισμό συναίνεση της βιομηχανίας για τις 32 nm γενιάς μισό γήπεδο και όχι μόνο.

Πηγή: http://www.sematech.org/

Last Update: 5. October 2011 12:02

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit