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Posted in | Nanolithography

Expertos Globales Para Discutir el Revelado de la Litografía en el Foro de Litho de SEMATECH

Published on May 25, 2010 at 1:35 AM

En el Foro de Litho de SEMATECH, el 10-12 de mayo, los líderes empresariales del semiconductor y los expertos de la tecnología ganaron discernimiento valioso en las opiniones de la industria sobre y las intenciones para el revelado de la litografía.

El Foro, una reunión de tres días de los expertos globales de la litografía, ofreció una formación impresionante de ejecutivos "senior" y de expertos técnicos en la industria del semiconductor que compartió perspectivas en porqué la colaboración es imprescindible para la innovación del semiconductor y qué retos debe abordar el revelado de las tecnologías de la siguiente-generación para hacer la litografía acertada.

“El enabler fundamental de la industria está mejorando el costo por la función,” dijo a Dan Armbrust, Presidente y Director General de SEMATECH. “Para Que la industria se desarrolle, los modelos comerciales necesite tener en cuenta colaboraciones para controlar costos y para ampliar tecnologías actuales mientras que construyen la infraestructura para las soluciones futuras.”

La “Litografía es la espina dorsal de la industria del semiconductor, y será una fuerza impulsora para las oportunidades futuras de la aplicación e incremento del asunto,” dijo el Arroz de Bryan, director de la Litografía en SEMATECH. “La información y la dirección resultantes del Foro de este año serán inestimables en la ayuda de piezas de SEMATECH amplían tecnologías actuales, construyen la infraestructura para el emerger, y vencen los retos técnicos y del costo de la litografía de la siguiente-generación.”

Los puntos culminantes del Clave del Foro incluyeron el siguiente:

  • El Ponente que marca la tónica Gary Patton de IBM se centró en la necesidad de la colaboración y de la innovación de la industria de continuar el mapa itinerario delantero y acentuado a la colaboración de SEMATECH en la infraestructura de EUV como un buen ejemplo del tipo de innovación colaborativa para hacer que suceso EUV.
  • Los Presentadores de IBM, de TSMC, de Tokyo Electron Limited, y de GLOBALFOUNDRIES revisaron el estado actual de la litografía y de las actividades que utilizaban opciones de la litografía, incluyendo la inserción de EUV, retos del examen de la máscara, el doble que modelaba el revelado de proceso, las decisiones múltiples del e-haz para 22 nanómetro y sub-22 nanómetro, y la disposición total de la herramienta.
  • Los surtidores del Equipo y del material acentuaron que los costos de revelado y la reducción totales del riesgo deben ser asegurados asegurándose de que el revelado progresa en un paso compatible con la máscara de EUV y resisten la infraestructura.

Además, reconocieron a más de 130 asistentes en sus planes y preferencias en las aproximaciones litográficas para la fabricación futura. Los resultados Dominantes de la encuesta incluyeron el siguiente:

  • Según Lo determinado en los Foros anteriores, el modelar doble de la inmersión de 193 nanómetro continúa ser la tecnología litográfica conveniente para el volumen que fabrica en 2012.
  • Mientras Que algunos fabricantes utilizarán la tecnología más pronto, EUV sería capaz de la colocación en la fabricación en 2014, con extendibility en la fabricación en 2016.
  • Para modelar doble de la inmersión, el costo de la propiedad, la capacidad cubierta, y el extendibility al dispositivo de la siguiente-generación siguen siendo los retos superiores.
  • Para la tecnología de EUV, los defectos de la máscara, la potencia de la fuente, la producción de la herramienta de la exposición, y el costo de la propiedad fueron valorados los retos superiores.
  • 193 nanómetro y EUV fueron elegidos como las tecnologías que serían consideradas para fabricar en el nodo de 32 nanómetro o más allá.

Con un ciclo de la industria de cerca de dos años por nodo de la litografía, el Foro bienal de Litho de SEMATECH proporciona a una oportunidad para que los utilizadores y los surtidores de la litografía evalúen el progreso de las diversas opciones de la tecnología. El consenso coordinado ayudado Foros anteriores de la industria en la generación del mitad-tono de 32 nanómetro y más allá.

Fuente: http://www.sematech.org/

Last Update: 12. January 2012 08:20

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