Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Posted in | Nanolithography

Globale Deskundigen om Ontwikkeling van de Lithografie bij het Forum Litho van SEMATECH Te Bespreken

Published on May 25, 2010 at 1:35 AM

Bij het Forum Litho van SEMATECH, 10-12 bereikten Mei, halfgeleider de bedrijfsleiders en de technologiedeskundigen waardevol inzicht op de waarnemingen van de industrie over en de bedoelingen voor lithografieontwikkeling.

Het Forum, het driedaagse verzamelen zich van globale lithografiedeskundigen, kenmerkte een indrukwekkende opstelling van hogere stafmedewerkers en technische deskundigen in de halfgeleiderindustrie die perspectieven deelde waarom de samenwerking voor halfgeleiderinnovatie noodzakelijk is en welke uitdagingen de ontwikkeling van volgende-generatietechnologieën moeten aanpakken om lithografie succesvol te maken.

„Fundamentele enabler van de industrie verbetert de kosten per functie,“ bovengenoemde Dan Armbrust, voorzitter en CEO van SEMATECH. „Voor de industrie om te evolueren, moeten de bedrijfsmodellen met samenwerking rekening houden om kosten te controleren en huidige technologieën uit te breiden terwijl het bouw van de infrastructuur voor toekomstige oplossingen.“

De „Lithografie is de backbone van de halfgeleiderindustrie, en het zal een stuwende kracht voor toekomstige toepassingskansen en de bedrijfsgroei,“ de bovengenoemde Rijst van Bryan, directeur van Lithografie bij SEMATECH zijn. De „resulterende informatie en de begeleiding van het Forum van dit jaar zullen in het helpen van leden SEMATECH huidige technologieën uitbreiden, infrastructuur voor nieuwe degenen bouwen, en de technische en kostenuitdagingen van volgende-generatielithografie overwinnen.“ onschatbaar zijn

De Zeer Belangrijke hoogtepunten van het Forum omvatten het volgende:

  • De Essentiële spreker Gary Patton van IBM concentreerde zich op de behoefte aan de industriesamenwerking en innovatie om roadmap vooruit voort te zetten en richtte aan de samenwerking van SEMATECH op infrastructuur EUV als goed voorbeeld van het type van samenwerkingsinnovatie om EUV te maken gebeuren.
  • De Presentators van Beperkt IBM, TSMC, het Elektron van Tokyo, en GLOBALFOUNDRIES herzagen de huidige staat van lithografie en activiteiten ondersteunend lithografieopties, met inbegrip van toevoeging EUV, de uitdagingen van de maskerinspectie, dubbel vormend procesontwikkeling, veelvoudige e-straal besluiten voor 22 NM en sub-22 NM, en algemene hulpmiddelbereidheid.
  • De Apparatuur en de materiële leveranciers benadrukten dat de algemene ontwikkelingskosten en de risicovermindering moeten worden beveiligd door ervoor te zorgen dat de ontwikkeling aan een tempo compatibel met het masker vordert EUV en zich tegen infrastructuur verzetten.

Bovendien, werden meer dan 130 aanwezigen onderzocht op hun plannen en voorkeur op lithografische benaderingen voor toekomstige productie. De Zeer Belangrijke onderzoeksresultaten omvatten het volgende:

  • Zoals geïdentificeerd bij vorige Forums, blijft 193 NM onderdompeling het dubbele vormen de geschikte lithografische technologie voor volume productie in 2012.
  • Terwijl sommige fabrikanten de technologie spoediger zullen gebruiken, zou EUV in productie in 2014, met extendibility in productie in 2016 kunnen worden geplaatst.
  • Voor onderdompeling het dubbele vormen, zijn de kosten van eigendom, het bekledingsvermogen, en extendibility aan het volgende-generatieapparaat nog de hoogste uitdagingen.
  • Voor technologie EUV, werden de maskertekorten, de bronmacht, de productie van het blootstellingshulpmiddel, en de kosten van eigendom geschat de hoogste uitdagingen.
  • 193 NM en EUV werden gekozen als de technologieën die voor productie bij de 32 NMknoop worden overwogen of verder.

Met een de industriecyclus van ongeveer twee jaar per lithografieknoop, biedt het tweejarige Forum Litho van SEMATECH een mogelijkheid voor lithografiegebruikers en leveranciers om de vooruitgang van diverse technologieopties te evalueren. De vorige Forums geholpen gecoördineerde de industrieconsensus inzake 32 NM de helft-hoogte generatie en verder.

Bron: http://www.sematech.org/

Last Update: 12. January 2012 08:39

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit