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Posted in | Nanofabrication

Ernst를 위한 결승전 자격자로 선택되는 케임브리지 NanoTech CEO + 2010 포상의 젊은 기업가

Published on May 25, 2010 at 5:35 AM

창시자와 Jill S. 베커 CEO 박사가 뉴잉글랜드에 있는 Year® (ALD) 2010 포상의 Ernst & Young 기업가를 위한 결승전 자격자이다는 것을 케임브리지 NanoTech 의 오늘 알려지는 원자 층 공술서에 있는 세계 지도자.

Ernst & Young LLP에 따르면, 포상 프로그램은 그들의 기업 및 지역 사회에 혁신, 재정 성과 및 개인적인 투입의 지역에 있는 특별한 성공을 설명하는 기업가를 인식합니다. 베커 박사는 독립적인 재판관의 위원회에 의해 거의 80의 지명에서 결승전 자격자로 선정되었습니다. 포상 우승자는 2010년6월 24일 보스톤 르네상스 부두 호텔에서 에 특별한 축제 행사에 알려질 것입니다.

"나는 이 고급 포상을 위한 Ernst & Young에 의해 결승전 자격자의 감동하는 명부의 사이에서 인식되기 위하여 적용됩니다," 박사를 말했습니다 베커. "이 공적은 케임브리지 NanoTech에서 특별한 팀이 없다면 가능하지 않ㄹ을, 물자 연구와 제조의 최전선에 ALD를 가져오기를 동등하게 약속하는. 케임브리지 NanoTech 봉헌, 독창성 및 에너지는 우리가 마지막 7 년에서." 직면한 공격적인 성장에 책임 있습니다

베커 박사는 2003년에 케임브리지 NanoTech를 발견하고 첫번째 12 달 안에 그녀는 그녀의 첫번째 제품을 발사했습니다. 오늘날, ALD 산업에 있는 인식한 지도자로, 케임브리지 NanoTech에는 최첨단 연구 및 높은 볼륨 제조를 가능하게 하는 4개의 제품라인이 있습니다. 베커 박사 임무는 경제와 생성 정확한 결과인 계속 ALD 시스템을 전달해서 ALD를 복음을 전하기 위한 것입니다. 회사의 ALD 시스템은 다양한 연구 및 산업 응용에서 이용되는 매우 얇은 필름 예금 가능합니다. 케임브리지 NanoTech 제조 ALD 시스템은 반도체, 편평한 패널 디스플레이, photovoltaics 및 고체 점화의 생산에서 이용됩니다. 연구 시스템은 5개의 대륙에 세계적인 과학자에 의해 전기 전도도 항균, UV 막고는 및 반사 방지와 같은 우량한 ALD 필름 속성을 공부하기 위하여 이용됩니다.

년 포상 프로그램의 Ernst & Young 기업가는 그것의 24 기념일을 올해에 경축합니다. 프로그램은 50개의 국가에 있는 135의 도시 상공에 경제 리더를 세계적으로 안으로 인식하기 위하여 확장했습니다. 지역 포상 우승자는 년 동포 프로그램의 Ernst & Young LLP 기업가를 위한 고려사항에 적격입니다. 몇몇 국제적인 종류에 있는 우승자를 수여하십시오, 뿐 아니라 년 포상 우승자의 Ernst & Young 전반적인 국제적인 기업가는 팜스프링스, 2010년11월 13일 에 캘리포니아에 있는 연례 포상 축제에, 알려질 것입니다. 포상은 Ernst & Young 전략적인 성장 공개토론의 남중 사건, 국가의 고성장, 시장 주요한 회사의 고급 집결입니다.

근원: http://www.cambridgenanotech.com/

Last Update: 12. January 2012 23:34

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