Oxford-Instrumente Stellt Anlage PlasmaPro NGP80 vor

Published on June 1, 2010 at 9:05 PM

Ein Führer in den Hilfsmitteln für Ätzung, Absetzung und Wachstum, Oxford-Instrumente hat gerade seine Anlage PlasmaPro NGP80 gestartet. Ein kompaktes Offenladen Hilfsmittel, Angebote PlasmaPro NGP80 vielseitige Plasmaätzung und Absetzungslösungen auf einer Plattform mit bequemem offenem Laden.

Seine kleine Abdruckanlage ist einfach zu stationieren und bedienungsfreundlich, ohne Kompromiss auf Prozessqualität und mit mehrfachen Verfahrenstechnikkonfigurationen. Das PlasmaPro NGP80 wird ideal zu R&D oder zur kleinräumigen Produktion entsprochen und kann von den kleinsten Waferstücken zu 200mm Wafers aufbereiten. Die offene Belastungsauslegung erlaubt das schnelle Waferbe- und entladung, das für Forschung, Erstausführung und Kleinserie ideal ist. Andere Hauptmerkmale des PlasmaPro NGP80 sind das späteste Generation SAMMELLEITUNGSkontrollsystem, erhöht das groß Datenwiederherstellung und entbindet das schnellere und wiederholbarere Übereinstimmen und die klare Leichtigkeit des Zugriffs zu den Schlüsselkomponenten für das verbessertes Instandhalten und Pflege.

Die mehrfachen Konfigurationen auf Angebot, RIE-, PECVD-, ICP- u. RIE-/PEmittelwert, dass NGP80 eine Lösung für eine große Auswahl von Anwendungen, einschließlich III-V Ätzungsprozesse, Silikon Bosch und Cryoätzung Prozesse, Diamant Wie Kohlenstoffabsetzung (DLC), SiO2- und Quarzätzung, harte Maskenabsetzung und Ätzung für Produktion und viel mehr der hohen Helligkeit LED anbietet.

Das Nanoscale-Physik-Forschungslabor an Birmingham-Universität trialling das NGP80 für ein vorbei Jahr, unter Verwendung des Hilfsmittels, um die Entwicklung von neuen Photoresists für Lithographie der nächsten Generation zu erforschen, und die Fälschung des hohen Längenverhältnissilikons basierte Bereichemitter.

Dr. Alex Robinson geht die Forschung voran und ist extrem mit den Ergebnissen PlasmaPro NGP80, „das Plasmapro NGP80 hat erhöht beträchtlich unsere Radierungsfähigkeiten gefallen worden. Die neue Software ist sehr einfach zu lernen, aber beträchtliche Flexibilität zu erlauben, komplexe Prozesse aufzubauen. Ausgezeichnete Wiederholbarkeit zusammen mit der umfassenden Parameterprotokollierung haben eine schnelle Übertragung von vorher entwickelten Fälschungsschritten auf die neue Maschine aktiviert und die Arbeit konsolidiert, die vorher auf einigen verschiedenen Etchers erledigt wird, während die Flexibilität und die Benutzerfreundlichkeit uns erlaubt haben, unsere Forschung in den neuen Richtungen zu entwickeln.“

Das Gerät wurde durch das Projekt AM1 gekauft: Nächste Generation des Fortgeschrittenen Werkstoffs Erstellen und Kennzeichnend. Dieses Projekt ist ein Teil einer größeren Investition in der Forschungsinfrastruktur, die durch Vorteil West Midlands finanziert werden und im Raumordnungs-Entwicklungsfonds (ERDF) unter der breiteren Birmingham-Wissenschafts-Stadtinitiative. Die Investition hat die Universitäten von Birmingham und von Warwick in einer neugeformten Wissenschafts-Stadt-Forschung Alliance vereinigt, um Innovation innerhalb der Region voranzubringen.

Verkaufsleiter für OIPT, Kennzeichen Vosloo, sagt, dass die Produkteinführung für beide OIPT und seine Abnehmer extrem positiv ist, „Da eine Firma wir an der konstanten Produktgestaltung festgelegt werden, um unseren Abnehmern die spätesten Prozesstechniken und die Anlagen in der Ätzung, in der Absetzung und im Wachstum anzubieten. NGP80 ist entwickelt worden, um schnelleren Durchsatz und größere Wiederholbarkeit an Minderkosten zu erlauben dem Abnehmer. Mit solchen erfolgreichen Verhandlungen an Birmingham-Universität jetzt, die komplett ist, sind wir, dass unsere Abnehmer das PlasmaPro NGP80 finden, Nächste Generation überzeugt, Plasma, dashilfsmittel gerecht wird seinem Namen.“

Oxford-Instrumente zielt darauf ab, verantwortliche Entwicklung und tieferes Verständnis der Welt durch Wissenschaft Und Technik auszuüben, und diese späteste Produktgestaltung und Zusammenarbeit mit einer führenden Forschungsuniversität verstärkt dieses.

Last Update: 12. January 2012 00:56

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