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Oxford Instruments Presenta PlasmaPro Sistema NGP80

Published on June 1, 2010 at 9:05 PM

Un líder en herramientas para la deposición de grabado, y el crecimiento, Oxford Instruments acaba de lanzar su sistema de PlasmaPro NGP80. Una herramienta compacta libre de carga, PlasmaPro NGP80 ofrece soluciones versátiles grabado de plasma y la deposición en una plataforma de carga abierta conveniente.

Su sistema de pequeño tamaño es fácil de sitio y fácil de usar, sin comprometer la calidad de los procesos, y con múltiples configuraciones de la tecnología de proceso. El NGP80 PlasmaPro es ideal para I + D o la producción a pequeña escala, y puede procesar de las piezas más pequeñas obleas obleas de 200 mm. El diseño abierto permite la carga rápida de obleas de carga y descarga, ideal para la investigación, creación de prototipos y de producción de bajo volumen. Otras características clave de la NGP80 PlasmaPro son la última generación de sistema de control de BUS, que aumenta en gran medida la recuperación de datos y entrega más rápido y juego más repetible, y la facilidad clara de acceso a los componentes clave para mejorar el servicio y mantenimiento.

Las configuraciones múltiples que se ofrecen, RIE, PECVD, ICP y RIE / PE significa que NGP80 ofrece una solución para una amplia gama de aplicaciones, incluyendo III-V los procesos de grabado, Silicon Bosch y los procesos de crio-etch, carbono tipo diamante (DLC) el depósito , SiO2 y cuarzo deposición de etch, la máscara de duro y grabar de LED de alta luminosidad de producción y muchos más.

El Laboratorio de Física de la investigación a nanoescala en la Universidad de Birmingham ha estado probando el NGP80 más de un año, utilizando la herramienta para investigar el desarrollo de nuevos foto-resistente para la litografía de próxima generación, y la fabricación de silicio de alta relación de aspecto emisores de campo base.

Dr. Alex Robinson dirige la investigación y ha sido muy satisfecho con el PlasmaPro NGP80 resultados, "El NGP80 Plasmapro ha mejorado significativamente nuestra capacidad de grabado. El nuevo software es muy sencillo de aprender, pero permite una gran flexibilidad para crear procesos complejos. Excelente repetibilidad en conjunto con un registro exhaustivo de parámetros han permitido una rápida transferencia de los pasos de fabricación desarrollado previamente a la nueva máquina, consolidando el trabajo hecho anteriormente en varios grabadores diferentes, mientras que la flexibilidad y facilidad de uso nos han permitido desarrollar nuestra investigación en nuevas direcciones. "

El equipo fue adquirido a través del proyecto AM1: Creación y Caracterización de la próxima generación de materiales avanzados. Este proyecto forma parte de una importante inversión en infraestructuras de investigación financiado por Advantage West Midlands y el Fondo Europeo de Desarrollo Regional (FEDER), bajo la más amplia iniciativa de la Ciudad de Birmingham Ciencia. La inversión ha unido a las Universidades de Birmingham y Warwick en una Alianza de Investigación sobre Ciencia recién creada ciudad para avanzar en la innovación dentro de la región.

Director de Ventas para OIPT, Marcos Vosloo, dice que el lanzamiento es muy positiva para ambas OIPT y sus clientes, "Como empresa estamos comprometidos con la innovación constante de sus productos con el fin de ofrecer a nuestros clientes las últimas técnicas de proceso y sistemas de deposición de grabado, y el crecimiento . NGP80 ha sido desarrollado para permitir un rendimiento más rápido y mayor repetibilidad a un precio reducido para el cliente. Con estos ensayos exitosos en Birmingham ha terminado la Universidad, estamos seguros de que nuestros clientes se encuentra el PlasmaPro NGP80, herramienta siguiente generación de plasma está a la altura a su nombre. "

Oxford Instruments tiene como objetivo lograr un desarrollo responsable y una comprensión más profunda del mundo a través de Ciencia y Tecnología, y esta última innovación de productos y colaboración con una universidad líder en investigación refuerza esta.

Last Update: 3. October 2011 18:19

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