牛津仪器推出PlasmaPro NGP80系统

Published on June 1, 2010 at 9:05 PM

在蚀刻,沉积和生长工具的领导者,牛津仪器公司刚刚推出的PlasmaPro NGP80系统。一个紧凑型开放式装载工具,PlasmaPro NGP80提供方便打开装载的多功能等离子体刻蚀和沉积的解决方案在一个平台上。

其占地面积小系统很容易的网站和容易使用,与过程的质量上没有任何妥协余地,并与多个工艺技术配置。 PlasmaPro NGP80是非常适合的R&D或小规模生产,并可以从最小的晶圆片处理200mm晶圆。开路负载设计,可实现快速的晶圆装卸,研究,原型设计和小批量生产的理想选择。 PlasmaPro NGP80的其他主要功能是最新代总线控制系统,极大地提高了数据检索,并提供更快,更可重复匹配,以及明确的访问,以改善服务和维护的关键组成部分缓解。

提供多种配置,RIE,PECVD,ICP及RIE / PE意味着NGP80提供一个解决方案的应用范围很广,包括III - V族蚀刻工艺,硅博世和冷冻蚀刻工艺,如碳(DLC),沉积钻石SiO2和石英蚀刻,硬掩膜沉积和蚀刻高亮度LED的生产和更多。

英国伯明翰大学的纳米物理研究实验室已经试用了一年多NGP80,使用的工具,以研究开发新的下一代光刻照片抵制,并制造高宽比基于硅场发射。

亚历罗宾逊博士率领的研究和PlasmaPro NGP80结果已经非常高兴,“Plasmapro NGP80显着增强我们的蚀刻能力的新软件是非常简单易学,但允许相当大的灵活性来构建复杂的过程。出色的重复性综合参数记录已启用了先前开发的制作步骤的迅速转移到新机器,巩固以前在几个不同的蚀刻完成的工作,而灵活性和易用性使我们能够开发我们的研究新方向。“

购买设备通过的AM1项目:创建和Characterising新一代的先进材料。该项目是在广泛伯明翰科学城主动优势西米德兰和欧洲地区发展基金(ERDF)资助下的研究基础设施的主要投资的一部分。投资美国伯明翰和华威大学,在一个新成立的科学城的研究联盟,推进区域内的创新。

OIPT,马克Vosloo,销售总监表示,推出OIPT和它的客户是非常积极,“由于我们致力于不断的产品创新,以​​便为客户提供最新的工艺技术和蚀刻,沉积和生长系统公司。NGP80已发展到允许更快的吞吐量和更大的客户在降低成本的可重复性。与伯明翰大学现已完成等试验取得成功,我们有信心,我们的客户会发现PlasmaPro NGP80,下一代等离子工具是生活它的名字。“

牛津仪器的目的是追求负责任的发展和深入了解通过科学和技术的世界,这个最新的产品创新和领先的研究型大学的合作巩固了这一点。

Last Update: 4. October 2011 09:04

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