牛津儀器引入 PlasmaPro NGP80 系統

Published on June 1, 2010 at 9:05 PM

在工具的領導先鋒為銘刻、證言和增長,牛津儀器發行了其 PlasmaPro NGP80 系統。 一個緊湊開放裝載工具, PlasmaPro NGP80 聘用多才多藝的等離子銘刻和證言解決方法在一個平臺有方便開放裝載的。

其小的腳印系統是容易選址和易用,沒有在處理質量的妥協和與多個加工技術配置。 PlasmaPro NGP80 理想地說配合與 R&D 或小規模生產,并且可能從最小的薄酥餅部分處理到 200mm 薄酥餅。 開放負荷設計允許快速薄酥餅裝載和轉存,理想對研究、原型和低音量生產。 PlasmaPro NGP80 的其他關鍵功能是最新的生成公共汽車控制系統,那非常地增加數據檢索并且提供更加快速和更加可重複符合和存取清楚的方便對關鍵部件的被改進的為服務和維護的。

在聘用的多個配置, RIE、 PECVD、 ICP & RIE/PE 平均值 NGP80 提供各種各樣的應用的一個解決方法,包括 III-V 銘刻進程、硅 Bosch 和 cryo 銘刻進程,像碳證言的 (DLC)金剛石、 SiO2 和石英銘刻、困難屏蔽證言和銘刻高亮度 LED 生產和許多的。

伯明翰大學的 Nanoscale 物理研究實驗室 trialling NGP80 一年,使用工具研究新的光致抗蝕劑的發展下一代石版印刷的,并且生產高長寬比硅根據域放射器。

亞歷克斯魯賓遜博士朝向這個研究和非常喜歡與 PlasmaPro NGP80 結果, 「Plasmapro NGP80 顯著提高了我們的蝕刻功能。 新的軟件是非常簡單瞭解,但是允許嚴重的靈活性建立複雜進程。 與全面參數記錄一起的非常好的反覆性啟用了以前被開發的製造步驟迅速調用到新的設備,統一在幾個不同的蝕刻師以前完成的工作,靈活性和易用允許我們開發我們的對新的方向的研究」。

設備通過這個 AM1 項目被採購了: 創建和分析高級材料的下一代。 此項目是一次主要投資的一部分在好處資助的研究基礎設施西米德蘭平原和歐洲區域發展資金的 (ERDF)根據更寬的伯明翰科學城市主動性。 這次投資團結伯明翰大學和 Warwick 一個新形成的科學城市研究聯盟的提前創新在這個區域內。

OIPT 的標記 Vosloo 經銷總理,說生成為兩个 OIPT 和其客戶是非常正的, 「因為公司我們做到恆定的產品創新為了提供我們的客戶最新的處理技術和系統在銘刻、證言和增長。 NGP80 被開發允許更加快速的處理量和更加極大的反覆性在減少的費用对這個客戶。 在完全現在伯明翰的大學的這樣成功的試算,我們確信我們的客戶將查找 PlasmaPro NGP80,下一代工具符合其名字的等離子」。

牛津儀器打算通過科學技術繼續處理負責的發展和對這個世界的更加深刻的理解,并且此最新的產品創新和協作與一所主導的研究大學加強此。

Last Update: 25. January 2012 22:13

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