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SEMATECH kündigt neue Collaboration zur Adresse Resist Issues in EUV-Lithographie

Published on June 3, 2010 at 7:35 AM

SEMATECH, ein internationales Konsortium von Chipherstellern und AZ Electronic Materials, der globale Anbieter von elektronischen Materialien für die Halbleiter-und Flat Panel Display-Industrie, gab heute bekannt, dass AZ Electronic Materials beigetreten SEMATECH Resist Materials and Development Center (RMDC) an der Hochschule für Nanoscale Science and Engineering (CNSE) der University at Albany.

AZ Electronic Materials wird mit SEMATECH Ingenieure auf entscheidende Fragen in widerstehen extremen Ultraviolett (EUV) Lithographie zusammenarbeiten. Spezifische Bereiche umfassen die Reduktion oder Eliminierung von line Kantenrauhigkeit (LER) in Bildern unter 22 nm; ultimative Auflösung von neuen widersteht; und Tests Imaging-Materialien für die EUV-Empfindlichkeit.

"Unsere Partnerschaft mit AZ Electronic Materials wird dazu beitragen, die RMDC Fähigkeit, kritische Fragen zu widerstehen in fortgeschrittenen Imaging-Adresse", sagte John Warlaumont, Vice President Advanced Technologies bei SEMATECH. "Diese neue Zusammenarbeit zeigt die Wirksamkeit der SEMATECH Bemühungen um eine breitere Palette an Teilnehmer aus der Industrie bei der Suche nach neuen Lösungen für unsere gemeinsamen technologischen Herausforderungen sind."

"Der Beitritt zur RMDC bietet AZ die Möglichkeit, unsere Spitzentechnologie Unterschicht und top-Rinse-Technologien, um die Bemühungen der Industrie, EUV die Leistung zu verbessern gilt", sagte Geoff Wild, CEO von AZ. "Wir erwarten, dass der Einsatz von speziellen Materialien" oben und unten "die EUV-Resists wird bei der Lösung einiger der aktuellen widerstehen Verarbeitung Mängel Hilfe, und wir können jetzt diese Art von Materialien an der CNSE zu testen."

"Der Zusatz von AZ Electronic Materials wird weitere Verbesserung der SEMATECH-CNSE Partnerschaft und dienen dazu, die Spitzenforschung in EUVL Technologie CNSE Albany NanoTech Complex beschleunigen", sagte Richard Brilla, CNSE Vice President für Strategie, Allianzen und Konsortien. "Diese Zusammenarbeit nutzt die erstklassigen Fähigkeiten auf den UAlbany NanoCollege um fortschrittliche technologische Lösungen, die entscheidend für Industrie ermöglichen."

Am RMDC, was zu widerstehen und Materiallieferanten in konzentrierten, kooperative F & E mit SEMATECH Mitgliedsunternehmen beteiligen. Gemeinsam bietet das RMDC die Hard-und Forschungs-Know-how von Materiallieferanten und Mitgliedsunternehmen, die zur Entwicklung EUV widerstehen Prozesse, die die strengen Auflösung gerecht zu werden, Linienbreite Rauhigkeit und Empfindlichkeit Spezifikationen für die EUV-Insertion an Mitgliedsunternehmen benötigt.

Quelle: http://www.sematech.org/

Last Update: 14. October 2011 20:59

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