SEMATECH Anuncia que la Nueva Colaboración A Dirigir Resiste Ediciones en Litografía de EUV

Published on June 3, 2010 at 7:35 AM

SEMATECH, un consorcio global de fabricantes de chips, y los Materiales Electrónicos de AZ, el surtidor global de materiales electrónicos a las industrias del semiconductor y de la pantalla plana, hoy anunciados que los Materiales Electrónicos de AZ han ensamblado SEMATECH Resisten los Materiales y el Centro de Desarrollo (RMDC) en la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería (CNSE) de Nanoscale de la Universidad en Albany.

AZ que los Materiales Electrónicos colaborarán con los representantes técnicos de SEMATECH en crucial resisten ediciones en litografía ultravioleta (EUV) extrema. Las áreas Específicas incluyen la reducción o la eliminación de la línea tosquedad del borde (LER) en imágenes debajo de 22 nanómetro; la resolución final de nuevo resiste; y materiales de la proyección de imagen de la prueba para la sensibilidad de EUV.

“Nuestra sociedad con AZ que los Materiales Electrónicos ayudarán a fortalecer la capacidad del RMDC de dirigir crítico resiste ediciones en proyección de imagen avanzada,” dijo a Juan Warlaumont, vicepresidente de Tecnologías Avanzadas en SEMATECH. “Esta nueva colaboración ilustra la eficacia de los esfuerzos de SEMATECH de incluir a una gama más amplia de participantes de la industria en la búsqueda para las nuevas soluciones a nuestros retos comunes de la tecnología.”

“Ensamblar el RMDC proporciona a AZ la oportunidad de aplicar nuestro underlayer marginal y las tecnologías de la parte-aclaración a los esfuerzos de la industria de mejorar funcionamiento de EUV,” dijo a Geoff Salvaje, el CEO de AZ. “Preveemos que el uso de los materiales de la especialidad “por encima y por debajo” del EUV resiste ayudará en resolver algo de la corriente resiste el tramitar de defectos, y ahora podemos probar estos tipos de materiales en el CNSE.”

“La adición de los Materiales Electrónicos de AZ aumentará más lejos la sociedad de SEMATECH-CNSE y servir acelerar la investigación marginal en tecnología de EUVL en el Complejo de Albany NanoTech de CNSE,” dijo a Richard Brilla, vicepresidente de CNSE para la estrategia, las alianzas y los consorcios. “Esta colaboración se aprovecha de las capacidades de calidad mundial en el UAlbany NanoCollege para activar las soluciones de la tecnología avanzada que son críticas a la industria.”

En el RMDC, llevando resista y los surtidores de los materiales participan en el R&D enfocado, cooperativo con las compañías de la pieza de SEMATECH. Junto, el RMDC proporciona a la dotación física y la experiencia de la investigación requerida por los surtidores de los materiales y las compañías de la pieza para desarrollar EUV resiste los procesos que resuelven la resolución, la tosquedad del grosor de línea, y los pliegos de condiciones rigurosos de la sensibilidad necesarios para la inserción de EUV en las compañías de la pieza.

Fuente: http://www.sematech.org/

Last Update: 11. January 2012 22:57

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit