SEMATECH Kondigt Nieuwe Te Richten Samenwerking aan Verzetten zich tegen Kwesties in Lithografie EUV

Published on June 3, 2010 at 7:35 AM

SEMATECH, een globaal consortium van chipmakers, en AZ Elektronische Materialen, de globale leverancier van elektronische materialen aan halfgeleider en vlak Comité vandaag kondigden de vertoningsindustrieën, aan dat AZ de Elektronische Materialen zich bij SEMATECH'S ZICH Verzetten tegen Materialen en het Centrum van de Ontwikkeling (RMDC) bij de Universiteit van Wetenschap Nanoscale en Techniek (CNSE) van de Universiteit in Albany heeft aangesloten.

AZ de Elektronische Materialen zullen met ingenieurs SEMATECH op essentieel verzetten zich tegen kwesties in extreme ultraviolette lithografie (EUV) samenwerken. De Specifieke gebieden omvatten vermindering of verwijdering van de ruwheid van de lijnrand (LER) in beelden onder 22 NM; de uiteindelijke resolutie van nieuw verzet tegenzich; en het testen weergavematerialen voor gevoeligheid EUV.

„Ons vennootschap met AZ Elektronische Materialen zal helpen de capaciteit van RMDC versterken om kritiek te richten verzet zich tegen kwesties in geavanceerde weergave,“ bovengenoemde John Warlaumont, ondervoorzitter van Geavanceerde Technologieën bij SEMATECH. „Deze nieuwe samenwerking illustreert de doeltreffendheid van de inspanningen van SEMATECH om een bredere waaier van de industriedeelnemers in het onderzoek naar nieuwe oplossingen aan onze gemeenschappelijke technologieuitdagingen te omvatten.“

„Het Aansluiten vanzich bij RMDC verstrekt AZ de kans om onze leading-edge underlayer en hoogste-spoelingstechnologieën op de de industrieinspanningen toe te passen om prestaties te verbeteren EUV,“ de bovengenoemde Wildernis van Geoff, AZ CEO. „Wij verwachten hierboven het gebruik van specialiteitmaterialen „en onder“ EUV verzet tegenzich zal helpen in het oplossen van enkele stroom verzetten zich verwerkings tegen tekortkomingen, en wij kunnen nu deze types van materialen bij CNSE testen.“

De „toevoeging van AZ Elektronische Materialen zal verder het vennootschap sematech-CNSE verbeteren en zal dienen om het leading-edge onderzoek naar technologie EUVL in Albany van NanoTech te versnellen van CNSE Complexe,“ bovengenoemde Richard Brilla, ondervoorzitter CNSE voor strategie, allianties en consortiums. „Deze samenwerking haalt voordeel uit de mogelijkheden van wereldklasse in UAlbany NanoCollege om geavanceerde technologieoplossingen toe te laten die aan de industrie.“ kritiek zijn

Bij RMDC, verzet tegen het leiden zich en de materialenleveranciers nemen aan geconcentreerd, behulpzaam R&D met SEMATECH lidbedrijven deel. Samen die, verstrekt RMDC de hardware en de onderzoekdeskundigheid door materialenleveranciers en lidbedrijven wordt vereist EUV te ontwikkelen verzet zich tegen processen die de stringente resolutie, de lijnbreedteruwheid ontmoeten, en de gevoeligheidsspecificaties nodig voor toevoeging EUV bij lidbedrijven.

Bron: http://www.sematech.org/

Last Update: 11. January 2012 22:33

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit