SEMATECH 宣布解决新的协作在 EUV 石版印刷方面抵抗问题

Published on June 3, 2010 at 7:35 AM

SEMATECH、芯片制造商全球财团和 AZ 电子材料,电子材料的全球供应商对半导体和平板显示器行业的,今天宣布的 AZ 电子材料连接了 SEMATECH 在学院 Nanoscale 科学和工程抵抗材料和开发中心 (RMDC) (CNSE) 大学在阿尔巴尼。

电子材料与关键的 SEMATECH 工程师将合作的 AZ 在极其紫外石版印刷方面抵抗 (EUV)问题。 特定区域在图象包括线路边缘坎坷的减少或 (LER)清除在 22 毫微米以下; 最终解决方法新抵抗; 并且测试 EUV 区分的想象材料。

“我们的与电子材料将帮助加强 RMDC 的能力解决重要的 AZ 的合伙企业抵抗在先进的想象的问题”,约翰 Warlaumont,先进技术的副总统说在 SEMATECH 的。 “此新的协作在搜索说明 SEMATECH 的工作成绩的效果包括各种各样的行业参与者新的解决方法到我们的公用技术挑战”。

“连接 RMDC 提供 AZ 这个机会应用我们的前进衬层,并且对行业工作成绩的顶冲洗技术改进 EUV 性能”, AZ 的 CEO 说通配的杰夫。 “我们预计使用专业材料 ‘在’ EUV 上下在解决抵抗将帮助某些当前抵抗处理缺点,并且我们可以现在测试材料的这些类型在 CNSE”。

“AZ 电子材料的添加进一步将提高 SEMATECH-CNSE 合伙企业,并且服务加速前进研究在 EUVL 技术在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 复杂”, CNSE 说理查 Brilla,方法、联盟和财团副总裁。 “此协作利用国际水平的功能在 UAlbany NanoCollege 启用对行业至关重要的先进技术解决方法”。

在 RMDC,导致请抵抗,并且材料供应商参加与 SEMATECH 成员公司的集中的,合作 R&D。 同时, RMDC 提供硬件,并且材料供应商和成员公司需要的研究专门技术开发 EUV 抵抗符合严密解决方法、行宽坎坷和区分说明需要的 EUV 插入在成员公司的进程。

来源: http://www.sematech.org/

Last Update: 11. January 2012 22:30

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