SEMATECH聯盟宣布新的合作地址抵制在EUV光刻技術的問題

Published on June 3, 2010 at 7:35 AM

SEMATECH聯盟,一個芯片製造商全球財團,和安智電子材料的電子材料的全球供應商的半導體和平面面板顯示器產業,日前宣布,安智電子材料已加入SEMATECH的抗學院納米材料及發展中心(RMDC)科學與工程學院(CNSE)大學奧爾巴尼分校。

AZ電子材料將與 SEMATECH聯盟工程師在關鍵抵制極端紫外線(EUV)光刻技術的問題。具體領域包括:減少或消除線邊緣粗糙度(LER),在低於 22納米的圖像,新的抵抗最終解決; EUV技術的敏感性測試成像材料。

,SEMATECH聯盟先進技術副總裁約翰說 Warlaumont:“我們與安智電子材料的合作夥伴關係將有助於加強 RMDC先進的影像,以解決關鍵抵制問題的能力,”。 “這一新的合作說明 SEMATECH的努力,包括在我們共同的技術挑戰尋求新的解決方案的業內人士更廣泛的成效。”

“加入RMDC提供AZ的機會,運用我們領先的底層和頂部的沖洗技術的行業努力提高EUV技術性能,野生,排列的首席執行官傑夫說。” “我們預計使用特種材料”上面和下面的“極紫外抵制將有助於解決當前一些抵制加工的缺點,和我們現在可以測試在CNSE的這些類型的材料。”

“安智電子材料的加入將進一步加強 SEMATECH聯盟 - CNSE合作夥伴關係,為加快在CNSE的奧爾巴尼納米技術複雜的極紫外光刻技術的前沿研究,說:”理查德Brilla,CNSE副總裁戰略,聯盟和財團。 “這一合作在UAlbany NanoCollege世界一流的技術優勢,使先進的技術解決方案,是至關重要的行業。”

在RMDC,導致抵制和材料供應商參與重點,合作研發與 SEMATECH聯盟的成員公司。總之,RMDC提供材料供應商和會員公司所需要的硬件和研究專長,開發 EUV技術抵禦流程,以滿足嚴格的決議,線寬粗糙度,和EUV技術在插入成員公司所需要的靈敏度規格。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 7. October 2011 14:46

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