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Synopsys pour valider la conception de solution personnalisée utilisant TSMC 28nm iPDK

Published on June 10, 2010 at 3:14 AM

Synopsys, Inc (Nasdaq: SNPS), leader mondial des logiciels et IP pour la conception de semi-conducteurs, de vérification et de fabrication, a annoncé aujourd'hui qu'elle a collaboré avec TSMC pour valider la solution de Synopsys conception personnalisée avec TSMC 28 nanomètres (nm) processus d'interopérabilité kit de conception (iPDK) et analogique / signaux mixtes (AMS) flot de référence 1.0. De référence 28nm de TSMC boucle verrouillée en phase (PLL) de conception a été utilisée pour valider Synopsys solution complète personnalisée, tout en démontrant des capacités qui améliorent la productivité de l'AMS 1,0 TSMC flot de référence.

La solution validée par Synopsys comprend la Galaxie Designer ® personnalisée mise en œuvre, HSPICE ® circuit de simulation, la simulation FastSPICE CustomSim ™, StarRC ™ parasitaires d'extraction et de solutions IC Validator de vérification physique. Grâce à l'AMS TSMC flot de référence 1.0 de validation, les clients mutuels peuvent s'attendre à une solution globale, productive et ouverte design personnalisé qui leur permet de relever les défis émergents liés aux processus semi-conducteurs avancés.

Nouvelle avancée nœuds technologiques processus, tels que le processus 28nm de TSMC, exigent que les outils EDA l'adresse d'un ensemble plus profond et plus large de défis de conception. Ces nouveaux défis incluent des modèles SPICE de haute précision pour la mise effets dépendants, la conception axée sur la règle mise en page avec la table la conception basée sur la règle de vérification (RDC) les règles, plus grandes et plus complexes des ensembles de règles de la RDC et de haute précision d'extraction. Chaque produit en solution personnalisée Synopsys a été validé par rapport à TSMC flot de référence 1.0 AMS afin de s'assurer que les clients peuvent être plus confiants dans la qualité répondant à leurs exigences de conception et chronologie.

«TSMC et Synopsys ont collaboré sur l'activation d'un écosystème ouvert pour la coutume et analogiques / signaux mixtes conceptions avec iPDK", a déclaré ST Juang, directeur senior du marketing chez TSMC infrastructure de conception. «La collaboration AMS TSMC flot de référence élargit encore notre relation pour améliorer la large analogique / signal mixte et de la solution de conception personnalisée en validant avancés TSMC technologie et des outils Synopsys ensemble."

De flux personnalisées Synopsys pour les front-end de conception et de simulation se compose de l'éditeur de schémas Custom Designer (SE) avec la simulation et l'environnement d'analyse, HSPICE simulateur de circuits, CustomSim FastSPICE simulateur et personnalisé WaveView onde analyseur. Le flux de front-end a été validé pour répondre à une variété de besoins tels que le rendement, les coins de processus multiples et analyse des effets du bruit. Le Synopsys conception personnalisée des flux physiques et de vérification est composé de l'éditeur de Layout Designer personnalisée (LE) avec schéma axé sur la disposition (SDL) et la technologie SmartDRD, IC Validator de vérification physique et StarRC extraction personnalisée parasitaires. Ce flux a été validé pour répondre aux besoins de la production axée sur la règle mise en page, pleine RDC / LVS signoff et de haute précision de l'extraction 3D avec la réduction de RC. Le flux personnalisées toute Synopsys a été validé avec iPDK 28nm de TSMC.

«TSMC et Synopsys ont une longue histoire de collaborations techniques qui fournissent une meilleure productivité de conception et d'un écosystème complet pour nos clients communs», a déclaré Bijan Kiani, vice-président du marketing produit chez Synopsys. "Synopsys offre une solution complète de conception analogique / signal mixte et de la coutume, et grâce à cette collaboration, nous pouvons nous assurer que nos clients mutuels ont accès à un flux de production et rationalisé qui a été vérifiée sur les 28 nanomètres de TSMC processus."

Source: http://www.synopsys.com/

Last Update: 3. October 2011 02:07

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