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Samsung は 32nm 低電力 HKMG の論理の加工技術を修飾します

Published on June 11, 2010 at 2:19 AM

鋳物場ビジネス、 Samsung の鋳物場が、高k 金属のゲートの技術の 32nm 低電力プロセスを修飾したことをサムソング・エレクトロニックス、 Co.、株式会社の今日発表される高度の半導体の (LP)解決の全体的なリーダー (HKMG)。

プロセスは Samsung の鋳物場の 300 ミリメートルの論理の製造ライン、 S ラインで正常に信頼性のテストを、 Giheung で、韓国完了し、顧客デザインの生産の今準備ができています。 32nm LP HKMG の論理の加工技術、 Samsung の鋳物場を修飾する集中的な媒体次世代の移動式家電のエネルギー効率が良い条件に会うように設計されているチップのボリューム製造業を始めるために第 1 が安定するように。

低い電力の技術の深いミクロ以下の専門知識に、 Samsung の鋳物場は、 IBM の共同開発の同盟とともにてこ入れして (JDA)、 45nm の論理の密度が最小化された制限するデザイン規則によって処理する倍が付いている競争の、最先端のプロセスプラットホームを提供するために 32nm LP HKMG ゲート最初プロセスノードを調整しました。

「この結果十分に統合される低い電力 SOC デザインに最新式デザイン解決をリーダーシップの鋳物場の加工技術に与える私達の作戦のもう一つの重要なマイルストーンです懇願することを」はスティーブンが、副総裁および総務部長のシステム LSI、サムソング・エレクトロニックス言いました。 「何人かの主パートナーと協力して、私達は開発からの生産環境の実施に HKMG を取れました。 私達の顧客は継ぎ目無く彼らのリーディングエッジの移動式ケイ素の解決のための製品化までの時間を加速するために最先端の 32nm LP HKMG の加工技術、デザイン・ツール、 IP および製造業の彼らのデザイン革新を統合できます今」。

「高k/金属のゲートの技術を使用して SOC'S を示す最初の鋳物場であることの Samsung へのお祝い。 この重要なマイルストーンは IBM の技術開発の同盟によって IBM の半導体の研究開発の中心のための競争の、低い電力の 「ゲート最初に」高k 技術 - 出現の次世代の移動式アプリケーションのための理想」、ギャリー Patton を言いました、副大統領を配信するために共同の子午線通過を表します。

修飾プロセスの一部として、 Samsung の鋳物場はダイナミックな力の減少 30% および (SoC)同じ頻度で 45nm LP で実行される SoC デザインと比較されたとき 55% 漏出力の減少示す 32nm LP システムチップを設計し、製造しました。 Samsung の鋳物場はゲート最初 HKMG の実施によるこれらの重要な力の減少番号に達できました。

32nm LP プロセスの開発で、 Samsung の鋳物場は生態系パートナーとの近い工学パートナーシップではたらきました。 パートナー IP は正常に統合し、この SoC で証明されるケイ素は下記のものを含んでいます:

  • アーム 1176 コア
  • 標準セル、メモリコンパイラーおよび I/Os で構成する物理的な IP を武装させて下さい
  • Synopsys」 USB 2.0 OTG

Samsung の鋳物場は Synopsys を含む EDA パートナー、調子の設計システムと働き、デザインに大きな進展を組み込む顧問は 32nm LP のためにのような流れます:

  • 、技術に偏る複数のしきい値の電圧ゲートで制御する、力多重チャンネルの長さおよび適応性があるボディを含む高度の低い電力の技術が漏出力を減らすのに使用されました
  • 統計的で静的な時間分析が (SSTA)効果的に変化をアドレス指定し、マージンを時間を計ることを減るのに使用されました
  • さまざまなセルおよびチップレベル DFM の技術が manufacturability を改善するのに使用されました

Samsung の鋳物場の顧客はこの製品によって証明されるデザイン下部組織および鋳物場ビジネスに一義的である連続的なフィードバックループから寄与します。

先端の論理の加工技術の広範な製造業の専門知識そして継続的開発によって、 Samsung の鋳物場は鋳物場の市場の先行技術の解決の条件の処理に焦点を合わせます。 Samsung の鋳物場の 32nm LP HKMG の加工技術は 28nm LP に顧客に縮みやすいデザイン規則およびスムーズな移行の経路を提供するために開発されました。

ソース: http://www.samsung.com/

Last Update: 12. January 2012 00:17

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