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Posted in | Nanoelectronics

SoC のために開発される新しいケイ素認可された解決は 28nm でそして向こう設計します

Published on June 16, 2010 at 3:12 AM

GLOBALFOUNDRIES は今日顧客がのそして向こう複雑な SoC デザイン 28nm のためのタイムにボリュームを加速するのを助けるように新しいケイ素認可された解決のアベイラビリティを発表しました。 呼出された DRC+ は点検する標準デザイン規則を越えて、技術行き、 (DRC)正確さを犠牲にしないで複雑な製造業問題の識別の 100 倍の速度の改善を可能にする二次元の形ベースのパターン一致を使用します。

「企業は高度の加工技術を採用し続けると同時に鋳物場が最初のケイ素の成功を保障するためにツールを顧客に与えることはますます重大になります」 Chian Mojy GLOBALFOUNDRIES のデザイン enablement の上席副社長を言いました。 集積回路の manufacturability に影響を与えることができる設計に関する問題を捕獲するために 「標準 DRC は挑戦されます。 DRC+ を使うと、私達は従来のアプローチに改良して、デザイン流れの潜在的な manufacturability 問題に与えています顧客によって高められる可視性を、先に」。

今まで、デザイナーは SoC デザインサイクルの間に DFM 問題を識別するための 2 つの一次オプションがありましたただ: 数値的なアルゴリズムに基づいて正確なしかしコンピュータ集約のシミュレーションを実行するか、またはすてきのからの度量衡学の測定に直接頼って下さい。 試みは追加規則の標準 DRC に改良する試みられましたがこれらのアプローチに混合された成功がありました。 例えば、レイアウトのための非常に規則的な構造だけを可能にする一部は提案しま、制限するデザインの使用が支配することを問題となる二次元の幾何学を全体で避けます。 潜在的な欠点は過度に抑制されたデザイン規則のアプリケ−ション使用要件を満たすためにデザイナーが効果的に彼らの回路を最適化できないことです。

DRC+ は別のアプローチを取ります。 デザイナーの柔軟性を制限するかわりに、技術は急速な二次元の形ベースの製造しにくいことができる問題となる構成を識別するためにパターン・マッチングの適用によって標準 DRC を増加します。 ツールは方法のデザイナーにそれから特定のフィードバックをこれらの問題を解決する戻します。

DRC+ の重大なコンポーネントとして、 GLOBALFOUNDRIES は今顧客に企業のの以下の技術 28nm のための収穫重大なパターンの最初にケイ素認可されたライブラリを提供しています。 GLOBALFOUNDRIES のテストランでは、 DRC+ は従来の DRC の確認エンジンと対等な速度で知られていた問題パターンを識別しま -、正確さを犠牲にしないでホットスポットの検出の速度の 100 倍の改善に導きます。

DRC+ は規則に基づいている DFM の確認とともに GLOBALFOUNDRIES によって、提供される全面的な DFM の解決を増加し、完了し、新しい収穫落ちるパターンを識別できるプロセス状態およびデザイン様式としてモデルベースの litho/腐食および CMP のシミュレーターは技術開発の間に、一定時間にわたり変更します。 プロセスが成熟すると同時に正確さの最高レベルで増加するパフォーマンス改善を、達成するのに、全チップレベルの DRC+ のパターン一致ベースの確認がそれから使用することができます。 確認の速度の改善によって、 DRC+ は急速に製品をボリュームに ramp、顧客のためのタイムに市場を加速する機能の直接影響があることができます。

革新的な DRC+ の確認の流れは複数の 32nm 生産 IC デザインで正常に使用され、 28nm 技術ノードのための収穫悪口を言い触らす者パターンのライブラリは先端の鋳物場の顧客のために GLOBALFOUNDRIES から現在利用できます。

「GLOBALFOUNDRIES で製造業およびデザイン流れで両方使用される口径のプラットホームに基づく DRC+ の解決相互顧客が十分に新しいプロセスの機能にてこ入れすることを可能にします」はジョー Sawicki、副大統領およびケイ素部への顧問のデザインの総務部長を言いました。 「すべての主要なデザイン環境との口径の統合、デザイナーの一義的な幅にてこ入れすることはモデルベースを混合でき、パターンベースの確認はに関する達成します最も短く可能なテープサイクル時間を」。

「調子および GLOBALFOUNDRIES は持っていてです DRC+ で一緒に動作している長い間の共作者ケイ素の tapeouts を通した確認を含んで」、 Wilbur ルオを、調子の設計システムの DFM の Enablement のグループ言いましたディレクター。 「私達は私達の非常にプロダクティブ関係およびこのリリースと非常に嬉しいです。 高性能および正確さの組合せは検出を可能にし、印刷適性の防止は助けるデザイン流れで早く保障しますより効率的なケイ素の認識を出ます。 私達は私達の SoC の DRC+ を可能にし、私達の相互顧客のタイムにボリューム条件を処理するために混合されシグナル内部デザイン DFM は私達のサイン・オフ確認の解決で流れ」。

GLOBALFOUNDRIES、調子および顧問からの代表は DRC+ の技術でそれ以上の細部を提供する次の (DAC)設計自動化の会議に手にあります。

ソース: http://www.globalfoundries.com/

Last Update: 12. January 2012 07:26

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