當前的 Nanoelectronics 專家在 SEMICON 西部 2010年在加利福尼亞

Published on June 22, 2010 at 2:03 AM

SEMATECH 和國際 SEMATECH 製造主動性 (ISMI)通過各種各樣的演講和討論會會議將顯示當前研究從 7月 13-15,與 SEMICON 一道西方 2010年在舊金山, CA。

SEMATECH 和 ISMI 專家在 3D 互連技術將報告他們的在新的材料和設備結構,下一代計量學和設備和很好的生產率的最新的預付款,與在地址鍵機會的一個特殊重點和挑戰。

「我們的目標是促進創新,并且持續的稱的實用的解決方法可能容易地合併到真實世界的製造環境裡的半導體技術」,丹 Armbrust, SEMATECH 的總裁兼 CEO 說。 「通過多種我們盼望共享我們的技術知識的介紹和討論會,并且最優方法,測試 3D 承諾互聯和引入新的製造概念幫助今後驅動我們的行業」。

預定幾位 SEMATECH 和 ISMI 專家發表演講關於 SEMICON 西方 TechXPOT 階段,在 Moscone 中心的北廳,在 7月 14日,包括:

  • 保羅 Kirsch,期初進程 SEMATECH 的主任, 「金屬氧化物 RRAM 作為將來的固定存儲器技術」,在上午11點。
  • Dilip Patel, ISMI 的計量學程序管理器, 「評定 Nanoscale : 計量學挑戰在製造中」,在 12:20 P.m。
  • 布賴恩米,石版印刷 SEMATECH 的主任,將減輕從 2 的先進的石版印刷 TechXPOT 會議 - 4:30 P.m。

另外,在 SEMICON 西部期間, SEMATECH 和 ISMI 將主持多種公共討論會:

  • 設備供應商和最終用戶將見面在 ISMI 設備能源討論會 - 在 7月 12日的 Overspecification 論及公共能力的 overspecification 的問題半導體進程工具的在上午8點,在 Marriott 候爵。
  • ISMI 的字符串跟蹤討論會的工具性能在 ISMI 開發的一個創新方法將提供答案和培訓確定多重通道的字符串工具性能衡量標準。 這次討論會也將提供設備性能在 7月 12日的基準點解決方法在下午1點在俱樂部聚會室,在 Marriott 候爵。
  • 設備供應商討論一個標準通信接口協議的生活能力在主要工具之間的并且在 ISMI 設備能源討論會支持設備例如粗抽泵和問題的使用減少設備 - 空閒模式的標準化的通信協議在下午1點的 7月 12日,在 Marriott 候爵。
  • 主持由 SEMATECH,與 Fraunhofer IZFP 合作,關於壓力處理的第二次討論會 3D 使用通過硅 Vias 的集成電路的討論管理的重點的像 DFM 的途徑,包括必需的有形資產、計量技術和對應的模擬使用模式在 7月 13日在上午9點,在全部 Hyatt。
  • 因為 ISMI 安裝基礎設備串聯, ISMI 的部分將主持下列討論會在 Marriott 候爵:
    • OEM 集中的乾燥銘刻處理設備討論會,在 8:00 上午的 7月 13日。
    • 設備關於乾燥銘刻房間的生產率討論會,在 8:00 上午的 7月 14日。
    • OEM 集中的乾燥銘刻處理設備討論會,在 8:00 上午的 7月 15日。
  • 共同贊助由半和 SEMATECH, 3D 對標準討論會的互連挑戰和需要在 3D TSV 綜合化將提供遠見并且迄今繼續進行,懇求關注方面,并且識別差異區在現有的解決方法和提出的/期望的解決方法之間的在 7月 13日在 1:00 P.m.,在 Marriott 候爵。
  • 設備供應商將共享他們的關於怎樣的計劃可以用於,修改新和現有的薄酥餅計量學技術或者被提高在 SEMATECH 的 3D 在 7月 14日的計量學討論會評定和改進 3D 互連進程在 1:00 P.m.,在 Marriott 候爵。
  • 共同創辦與半, ISMI 的 e 製造討論會將著重設備數據收集界面 (界面 A)。 e 製造啟用在界面 A 需求的實施策略,包括下個凍結級別,將存在對芯片製造商、設備公司和軟件供應商聽眾在 7月 14日在 1:00 P.m.,在 Marriott 候爵。
  • 共同創辦與半, ISMI 的產品和設備時間衡量標準討論會將提供一個論壇引入 「產品和設備時間衡量標準的」概念給半導體行業。 參與者將獲取對對時間衡量標準概念的定義和使用的瞭解作為識別,評定和改進的工廠和設備生產率一個交替法在 7月 15日在下午1點,在 Marriott 候爵。

一些 nanoelectronics 行業的 SEMATECH 和 ISMI 最著名的技術專家出席 SEMICON 西部。 與董事和技術專家的面試根據需要是可用的。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 25. January 2012 23:38

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