Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Posted in | Nanofabrication

Neue Anlage GEMStar ALD von Arradiance Gibt Gleichmäßig Nanolaminate-Filme ab

Published on June 22, 2010 at 2:06 AM

Arradiance kündigte heute Zeit ihre starke neue schicht-Absetzungsanlage GEMStar™ Benchtop (ALD) Atom an, diemit dem Anfang der Amerikanischen der Vakuumdie Schicht-Absetzungs-Sitzung gesellschaft jährlichen Atomin Seoul festgesetzt wurde, Korea, in dem Dr. Philippe de Rouffignac, Allgemeiner Materieller Wissenschaftler Arradiance, eingeladen worden ist, über das Thema zu sprechen, „ALD von SnO2 als dem Wirkanteil eines Basierten PlastikMicrochannel ‐ Verweisen Schnelles Neutron-Detektor.“

Das GEMStar, für das Arradiance bereits mehrfache Ordnungen von führenden Forschungszentren empfangen hat, kann verwendet werden, um Dünnschichten des Materials auf praktisch jeder möglicher Substratfläche abzugeben und wurde mit dem schwierigsten hohen Längenverhältnis und durch ‐ Poren-Absetzungsanwendungen im Verstand konstruiert.

GEMStar Benchtop ALD

Die GEMStar-c4systemstapel die Fähigkeit, zum 6" Wafers oder Körper bis zu 1" aufzubereiten tief zusammen mit Raum für bis 8 Vorläufer in kleinen 31" x 24" x 11" Paket, ohne Wartbarkeit oder Filmqualität zu opfern. Die Anlage kennzeichnet auch einen Anschluss für wahlweise in ‐ situ Metrologie, in einem wahlweisestickstoffvorlagenmerkmal, in der Fähigkeit von erhitzten Vorläufern und in einem inneren KRAFTSTOFFREGLER-Ventil. Arradiances robuste und benutzerfreundliche GEMFlow™-Software und fünf vor ‐ gekennzeichnete Rezepte kommen Standard.

„Von unserer Arbeit mit den empfindlichen, hohen Längenverhältnis Microchannelzellen, wurden uns wir dem Bedarf an einer Anlage, in der wir repeatably könnten und komplexes nanolaminate gleichmäßig abzugeben effizient“ filmt, erklären Dr. de Rouffignac akut bewusst. „Wir stellten auch vom Sprechen mit Leadern des Sektors fest, dass Systemgröße, Preis, Flexibilität in den Waferabmessungen und Vorläuferverfügbarkeit sind auch Schlüssel zum Bedarf des R&D-Marktes.“

Arradiance-Leitender Geschäftsführer, David Beaulieu, fügt hinzu, „wir lernten von unseren eigenen Anwendungen, die für Einheitlichkeit konstruieren und parametrische Regelung die Tasten zum Entwicklungserfolg sind. Unser eindeutiger Reaktor, erhitzte Vorläuferverteilerleitung und multi ‐ kanalisieren Gasliefersystem, zusammen mit einzelnen Vorläuferheizungsbediengeräten geben Sie uns die Leistung und die Flexibilität, jeden komplexen Film zu handhaben.“

Quelle: http://www.arradiance.com/

Last Update: 12. January 2012 07:22

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit