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Posted in | Nanofabrication

Le Système Neuf de GEMStar ALD d'Arradiance Dépose Uniformément des Films de Nanolaminate

Published on June 22, 2010 at 2:06 AM

Arradiance a aujourd'hui annoncé leur système Atomique neuf puissant de Dépôt de Couche de GEMStar™ (ALD) Benchtop calé avec l'ouverture du Session Atomique annuel de Dépôt de la Couche de la Société Américaine d'Aspirateur à Séoul, Corée où M. Philippe de Rouffignac, Scientifique Matériel Principal d'Arradiance, a été invité à parler du sujet, « ALD de SnO2 comme composant actif d'un Détecteur de Neutrons Rapides Direct Basé de ‐ En Plastique de Microcanal. »

Le GEMStar, pour lequel Arradiance a déjà reçu des commandes multiples de principaux centres de recherche, peut être employé pour déposer des couches minces de matériau sur pratiquement n'importe quel substrat et a été conçu avec le rapport hauteur/largeur élevé le plus provocant et par des applications de dépôt de pore de ‐ à l'esprit.

GEMStar Benchtop ALD

Les paquets de système de GEMStar la capacité pour traiter 6" disques ou solides jusqu'à 1" profondément avec la chambre pour jusqu'à 8 précurseurs dans un 31" minuscule x 24" x 11" module sans sacrifier la maintenabilité ou la qualité de film. Le système comporte également un port pour optionnel dans la métrologie de situ de ‐, une caractéristique technique optionnelle d'aide d'azote, la capacité des précurseurs passionnés et une soupape intérieure de CPC. Le logiciel robuste et convivial d'Arradiance de GEMFlow™ et cinq pré recettes qualifiées par ‐ viennent norme.

« De notre travail avec les structures sensibles et élevées de microcanal de rapport hauteur/largeur, nous nous sommes rendus compte intensément du besoin de système en lequel nous pourrions repeatably et déposer uniformément le nanolaminate complexe filme efficacement », explique M. de Rouffignac. « Nous nous sommes également rendus compte de parler aux leaders de l'industrie que la taille de système, le prix, la souplesse dans des cotes de disque et la disponibilité de précurseur sont également principaux aux besoins du marché de R&D. »

Le Directeur des Opérations d'Arradiance, David Beaulieu, ajoute, « nous avons appris de nos propres applications qui conçoivent pour l'uniformité et le contrôle paramétrique sont les clés à la réussite de développement. Notre seul réacteur, conduite passionnée de précurseur et ‐ multi acheminent le système de distribution de gaz, avec différents contrôles de chauffage de précurseur nous donnent la puissance et souplesse de traiter n'importe quel film complexe. »

Source : http://www.arradiance.com/

Last Update: 12. January 2012 07:20

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