Posted in | Nanofabrication

Het Nieuwe Systeem van GEMStar ALD van Arradiance Deponeert Uniform Films Nanolaminate

Published on June 22, 2010 at 2:06 AM

Arradiance kondigde vandaag hun krachtig nieuw systeem van het Deposito van de Laag van GEMStar™ Benchtop (ALD) Atoom vastgesteld met het begin van de Vergadering van het Deposito van de Laag van de Amerikaanse VacuümMaatschappij jaarlijkse Atoom in Seoel, Korea aan waar Dr. Philippe de Rouffignac, Belangrijkste Materiële Wetenschapper Arradiance, om op het onderwerp is verzocht te spreken, „ALD van SnO2 als actieve component van een Plastic Microchannel ‐ Gebaseerde Directe Snelle Detector van het Neutron.“

GEMStar, waarvoor Arradiance reeds veelvoudige orden van belangrijke onderzoekscentra heeft ontvangen, kan worden gebruikt om dunne lagen van materiaal op vrijwel om het even welk substraat te deponeren en met de opwindendste hoge aspectverhouding en door ‐ de toepassingen van het poriedeposito in mening ontworpen.

GEMStar Benchtop ALD

Het systeem GEMStar pakt het vermogen in om 6“ wafeltjes of vaste lichamen tot 1“ diep samen met ruimte voor maximaal 8 voorlopers in een uiterst klein 31“ x 24“ x 11“ pakket te verwerken zonder houdbaarheid of filmkwaliteit te offeren. Het systeem kenmerkt ook een haven voor facultatief in ‐ situmetrologie, staat een facultatieve stikstof eigenschap, vermogen van verwarmde voorlopers en een binnenwaartse MFC klep bij. Komen de robuuste en de gebruikers‐ vriendschappelijke software GEMFlow™ en vijf van Arradiance pre‐ recepten kwalificeerde norm.

„Van ons werk met gevoelige, hoge aspectverhouding microchannel structuren, werden wij bewust van de behoefte aan een systeem waarin wij complexe nanolaminatefilms konden efficiënt repeatably en uniform deponeren“, verklaren scherp Dr. de Rouffignac. „Wij realiseerden van het spreken aan de industrieleiders ook dat de systeemgrootte, de prijs, de flexibiliteit in wafeltjeafmetingen en de voorloperbeschikbaarheid ook zeer belangrijk aan de behoeften van de markt van R&D.“ zijn

Voegt de Belangrijkste Werkende Ambtenaar van Arradiance, David Beaulieu, toe „wij leerden van onze eigen toepassingen dat het ontwerp voor uniformiteit en de parametrische controle de sleutels aan ontwikkelingssucces zijn. Ons unieke reactor, verwarmd systeem van de het gaslevering van het voorloper divers en multikanaal ‐, samen met individuele voorloper het verwarmen controles geven ons de macht en de flexibiliteit om het even welke complexe film te behandelen.“

Bron: http://www.arradiance.com/

Last Update: 12. January 2012 07:18

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit