剑桥 NanoTech 通过提供 200th ALD 系统指示重要事件

Published on June 23, 2010 at 2:09 AM

剑桥 NanoTech,世界领导人在基本层证言 (ALD)科学和设备,今天宣布了其 200th ALD 系统发运。 剑桥 NanoTech 归因于此重要事件这家公司给 ALD 社区带来此技术和唯一质量的越来越普遍接受。

ALD 系统

罗杰 Coutu,工程 VP 在剑桥 NanoTech,认可此重要事件的意义: “这指示二点。 首先,有此技术通用市场承兑,和第二,这验证我们的信仰技术将 是较不复杂的更加可访问,更加价格合理和普遍存在的通过设计”。

发出光线 Ritter,剑桥 NanoTech 的 COO,高兴地注意到,这家公司现在有用于在五个大陆安装的一许多的 ALD 系统应用。 “剑桥 NanoTech 的主要任务是导致科学研究的各种各样的 ALD 系统,并且制造”, Ritter 先生说。

剑桥 NanoTech 投入继续是选择提供者下一代 ALD 产品的。 将来的 ALD 项目的公司的计划在灵活和严格的大区基体的迅速证言包括开发的快速 ALD 和辊对辊 ALD 系统为使用。 “我们的更大的研究和生产 ALD 系统是接收良好在这个市场上,跟随我们非常成功的大草原 ALD 系统脚步”, Ritter 先生说。

剑桥 NanoTech 在汉城,韩国当前参加 ALD 2010年会议,我们的科学家存在对低汽压前体低抵抗力锡工艺过程最佳化和增长的 ALD 研究从金属有机前体的。

来源: http://www.cambridgenanotech.com/

Last Update: 12. January 2012 01:33

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