KLA-Tencor Revela el Nuevo Sistema de la Metrología para 2Xnm la Lógica, Dispositivos de Memoria del Mitad-Tono 1Xnm

Published on June 23, 2010 at 2:45 AM

Hoy KLA-Tencor Corporation (Nasdaq: KLAC), el surtidor de cabeza del mundo del mando de proceso y las soluciones de la administración del rendimiento para el semiconductor y las industrias relacionadas, introdujeron el sistema de la metrología de Archer 300 LCM.

Archer 300 ofertas precisión y medición de LCM apresura importante mejor que el de su precursor, de Archer ancho-adoptado 200, y de la nueva capacidad de la metrología del en-dado de las características. Con estas innovaciones, Archer 300 LCM puede servir como solución completa de la administración del desvío del papel en el fabuloso, resolviendo los pliegos de condiciones estrictos requeridos para calificar los analizadores y para controlar apretado la fabricación en grandes cantidades de los dispositivos marginales de la lógica y de memoria. Mejorable de las herramientas existentes de Archer, Archer que 300 LCM representan un alto rendimiento, costo-de-propiedad inferior cubrió la solución de la metrología para los procesos avanzados. 

Archer 300 LCM

“La puesta en vigor de extensiones nuevas a la litografía 193i ha tenido un impacto enorme en la tolerancia del desvío del papel para las capas críticas. Particularmente, el uso de la litografía que modela doble reduce el desvío tolerable del papel apenas a algunos nanómetros en el nodo 32nm, y los nodos subsiguientes tienen una tolerancia incluso más pequeña. Esta restricción es sin precedente,” Loma declarada de Noam, vicepresidente y director general de la División de la Metrología del Papel de KLA-Tencor. “Nuestra nueva herramienta de la metrología del papel, Archer 300 LCM, resuelve los pliegos de condiciones rigurosos requeridos para medir para cubrir desvío en doble-modelar y otras capas desafiadoras. También hemos desarrollado una manera de poco costo de permitir a representantes técnicos de la litografía tomar más mediciones a través del fulminante, para poder vigilar estos parámetros efectivo: una combinación de la velocidad creciente de la medición más el uso de las metas muy minúsculas de la metrología puestas dentro del dado sí mismo, en vez solamente hacia adentro de las áreas en medio muere. Quizás más importante, podemos proporcionar a todas estas capacidades en una herramienta única, inferior de la huella. Creemos que Archer 300 LCM representa un paso de progresión importante hacia adelante en resolver las ediciones difíciles del papel que afectan a los dispositivos marginales.” 

Archer 300 LCM incluye varias características diseñadas para ayudar a los fabricantes de chips de poco costo a desarrollar y a fabricar los dispositivos de la lógica 2Xnm y de memoria del mitad-tono 1Xnm:

  • Las Mejorías a los subsistemas ópticos entregan una precisión más apretada e incertidumbre de medición total (TMU), una mejor repetibilidad de la medición y un tiempo más rápido (MAM) de la movimiento-detectar-dimensión que la anterior-generación Archer 200;
  • La Nueva capacidad de la medición del papel del en-dado ayuda a los fabricantes de chips a ejecutar correcciones complejas del papel para activar modelar exacto; y
  • La Aumentabilidad de las herramientas ancho-adoptadas, existentes de Archer y diseñar-en extendibility a otras capacidades de la metrología ayuda a proteger las inversiones de los capitales de los fabs

Han expidido a Archer 300 sistemas de LCM a los fabricantes importantes del semiconductor de la memoria y de la lógica por todo el mundo, donde serán utilizadas para las aplicaciones del papel en el revelado avanzado y la producción en grandes cantidades.

Fuente: http://www.kla-tencor.com/

Last Update: 12. January 2012 01:14

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