KLA-Tencor は 2Xnm 論理のための新しい度量衡学システムの、 1Xnm 半ピッチのメモリデバイスベールを取ります

Published on June 23, 2010 at 2:45 AM

今日 KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC)、世界の半導体および関連の企業のためのプロセス制御および収穫管理解決の一流の製造者は、 Archer 300 LCM の度量衡学システムをもたらしました。

Archer は 300 の LCM の提供精密および測定前任者、広採用された Archer 200、および機能新しい内部ダイスの度量衡学の機能のそれよりかなりよい促進します。 これらの革新を使うと、 Archer はすてきの全体の広範囲オーバーレイエラー管理解決として 300 LCM 役立つことができまスキャンナーを修飾し、堅く先端の論理およびメモリデバイスの大量の製造業を制御するために必要な厳密な指定に合います。 Archer のあるツールからアップグレード可能、 300 LCM が高性能、低い費用の所有権を表す Archer は高度プロセスのための度量衡学の解決の上にありました。 

Archer 300 LCM

「193i 石版印刷への新しい拡張の実施に重大な層のためのオーバーレイエラー手当の巨大な影響がありました。 特に、二重模造の石版印刷の使用は 32nm ノードでちょうど少数のナノメーターに耐えられるオーバーレイエラーを減らし、それに続くノードにより小さい手当があります。 この制限は前例のないです」、 KLA-Tencor のオーバーレイ度量衡学部の Noam の示された小山、副大統領および総務部長。 「私達の新しいオーバーレイ度量衡学のツール、 Archer は 300 LCM、二重模造および他の挑戦的な層のエラーの上にある測定に必要な厳しい指定に合います。 私達はまたこれらのパラメータが効果的に監視することができるように石版印刷エンジニアがウエファーを渡るより多くの測定を取ることを可能にする費用有効方法を開発しました: その間領域だけの代りにダイス自体の内に、置かれる非常に小さい度量衡学ターゲットの使用と増加された測定の速度の組合せは停止します。 多分重大に、私達は単一、低い足跡のツールのこれらの機能すべてを提供できます。 私達は」。ことを Archer が先端装置に影響を与える困難なオーバーレイ問題の解決で 300 LCM 主要な一歩前進を表すことを信じます 

Archer は 300 LCM チップメーカーが 2Xnm 論理および 1Xnm 半ピッチのメモリデバイスを発達させ、製造するのを効率よく助けるように設計されている複数の機能を含んでいます:

  • 光学サブシステムへの改善は前生成 Archer 200 より堅い精密 (TMU)および総測定不確実性、よい測定の (MAM)反復性および速い移動得測定の時間提供します;
  • 新しい内部ダイスオーバーレイ測定の機能はチップメーカーが正確な模造を可能にするために複雑なオーバーレイ訂正を実行するのを助けます; そして
  • Archer の広採用された、あるツールからのそして他の度量衡学の機能への extendibility 設計のアップグレード可能性は fabs の資本投資の保護を助けます

Archer は主要なメモリおよび論理の半導体の製造業者に 300 の LCM システムそれらが先端開発および大量の生産でオーバーレイアプリケーションのために使用されるところで、世界的に出荷されました。

ソース: http://www.kla-tencor.com/

Last Update: 12. January 2012 01:44

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