Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | MEMS - NEMS

アジア・太平洋の MEMS の研究所に 200 SE DRIE のツールを供給する Tegal

Published on June 30, 2010 at 5:52 AM

Tegal Corporation、 (NASDAQ: TGAL は) 高度 MEMS の力 IC および光電子工学装置の製造のための専門にされた生産の解決の改新者、今日発表しました MEMS および関連技術を調査している一流のアジアの太平洋ベースの研究開発の施設から Tegal 200 SE™ DRIE のツールのための発注を受け取ったことを。

Tegal 200 SE DRIE のツールはカスタマ・サイトで後で出荷され、この暦年インストールされます。

Tegal 200 SE のケイ素 DRIE プロセスツール

Tegal 200 SE のケイ素 DRIE システム順序は Tegal 1 回目の DRIE の顧客から、顧客がケイ素 DRIE のツールおよびツールの製造者の広い範囲で行った顧客の国内市場からの競争の解決を含む完全な競争の評価の結果、です。

「私達の顧客作業のための右のケイ素 DRIE のツールの選択の MEMS の研究開発の開始の科学技術のリーダーシップに経路を知っています」、はヤニック Pilloux、 Tegal Corporation の DRIE のプロダクトマネージャーを言いました。 「私達は私達の DRIE 200 SE システムおよび私達の深いケイ素の腐食プロセスが最も信頼でき、今日市場で最先端および、 Tegal から使用できる優秀なローカルサポートと結合されて私達の競争相手に選択される Tegal で起因したことを信じます家庭市場の競争を含んで」。

Tegal は 200 SE™今日製造する 3D 一口および MEMS ボリュームのための最高に適応させた DRIE の解決です。 ツールはクリーニング間の拡張時間の組合せのおかげで製品アプリケーション、最小のウエファーの端の排除、高いケイ素の腐食のレート、優秀なプロセス安定性および非常に均一エッチングの所有権の低価格の高いスループットを達成するように設計されています。 200 の SE の結果は専有ハードウェアの広い範囲の Tegal によって実施への得られた感謝および深いケイ素の腐食のための Bosch 標準プロセスへの工程改善行います; これらの改善は Tegal 特許を取られる熱されたはさみ金を、および特許を取られた S.H.A.R.P. (極度の高いアスペクトレシオプロセス) プロセスによって含んでいます。

Tegal のケイ素 DRIE のツールは多数の研究開発の実験室で現在あります、世界中で用いられ、また世界的な MEMS の鋳物場および他の専用商業大量の製造業ラインに商業および学術の研究計画で実行します。

ソース: http://www.tegal.com/

Last Update: 12. January 2012 01:44

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit