Résultats de Picosun Hghlights Obtenus par la Compagnie Suédoise de Nanotechnologie

Published on July 5, 2010 at 7:24 AM

Picosun Oy, constructeur global Finlande-Basé des systèmes Atomiques de pointe de Dépôt (ALD) de Couche a mis en valeur aujourd'hui les résultats obtenus par la compagnie Suédoise Nanexa de nanotechnologie, utilisant les systèmes du SUNALE™ ALD de Picosun.

Nanexa a développé récemment un filtre biocompatible avec la porosité supérieure. La porosité élevée peut aider à réduire la taille des filtres jetables. La Réduction est dans la taille essentielle dans beaucoup d'applications, par exemple sur le marché d'élevage de la dialyse.

Illustrations : Nanexa AB, Upsal, Suède.

Les filtres biocompatibles nouveaux de Nanexa, produits pour l'usage médical spécialisé avec la technologie principale d'ALD, ont une surface de l'oxyde de titane, un matériau qui est réputé pour son biocompatibility. Ceci signifie qu'une fois utilisé pour filtrer des liquide organiques, par exemple relativement au traitement par dialyse des patients de rein, la réaction inflammatoire qui se produit souvent peut être retenue.

La taille de pore des filtres nouveaux peut être exact conçue en fonction de l'ordre de 5 nanomètre pour 300 nanomètre. En Outre, à cause des longueurs homogènes de pore - tous les pores ayant exact la même longueur, l'épaisseur d'un filtre peuvent précision-être ajustés entre 500 nanomètre aux centaines de µm. Les filtres peuvent être couverts de couche biocompatible protectrice et peuvent être produits dans les lots ayant pour résultat des coûts de production faibles.

Nanexa a également développé un grand choix de films minces minéraux sur différentes surfaces sous la Marque Déposée de Nanoxide®. Utilisant sa technologie trademarked Nanexa offre un grand choix de services de biocompatibility pour des buts médicaux. Nanexa peut, par exemple, couvrir l'intérieur et l'extérieur des canules et les cathéters ou les surfaces sélectées des implants ou in vivo du matériel, telles que des stimulateurs, et rendre ces surfaces complet biocompatibles.

« Nanexa est un parfait exemple du genre de compagnies tranchantes de nanotechnologie qui formeront le notre demain. Ils ont recensé et ont complet compris le potentiel d'ALD, et ont atteint les meilleurs systèmes disponibles d'ALD pour tourner leurs théories en pratique. Picosun est très fier de compter cette compagnie en tant qu'une du nombre de plus en plus important des Associés de Picosun, » dit Juhana Kostamo, Directeur Général de Picosun.

Le « Choix d'un ALD-réacteur de Picosun était une décision logique pour Nanexa. Un ALD-système de pointe avec un support technique avancé est essentiel pour nos affaires afin d'améliorer la productivité, la quality assurance anticipée et pour réduire l'exposition de panne, » a dit le Chrétien Östberg, PRÉSIDENT de Nanexa AB. « Avant tout, ceci peut augmenter la valeur de ce que nous livrons à nos abonnées. Comme PRÉSIDENT, c'est mon but premier. »

Le Professeur Couvre-tapis Boman, CTO chez Nanexa a ajouté, « Nous recherchions une solution complète et modulaire qui a fourni la facilité d'utilisation, y compris la possibilité pour ajouter des caractéristiques techniques pendant que notre demande change. Picosun est juste le bon ajustement. »

Picosun développe et fabrique les réacteurs Atomiques de Dépôt de Couche pour des applications micro et de nanotechnologie. Picosun représente la continuité à plus de trois décennies de la fabrication de réacteur d'ALD en Finlande. Picosun est basé dans Espoo, Finlande et a ses sièges sociaux des USA à Detroit, Michigan. Des outils de procédé de SUNALE™ ALD sont installés dans universités variées, instituts de recherches et compagnies en travers de quatre continents.

M. Tuomo Suntola, inventeur de technologie d'ALD, est Membre du Conseil D'administration De Picosun. Le créateur Sven Lindfors de réacteur de l'ALD le plus expérimenté du Monde est l'Officier de la Technologie de Picosun et le fondateur En Chef de la compagnie. Picosun Oy est une partie de Stephen Industries Inc Oy.

Last Update: 12. January 2012 22:01

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