Het Nieuwe Systeem van AdvantEdge Mesa Levert CD sub-Nanometer Uniformiteit

Published on July 13, 2010 at 3:56 AM

De Toegepaste Materialen, Inc. onthulden vandaag zijn nieuw Toegepast systeem van Centura® AdvantEdge™ Mesa™ om de eigenschappen van de nano-schaalkring met ångström-vlakke precisie in de apparaten van de van de van de volgende-generatieBORREL tot stand te brengen, Flits en Logica.

Als resultaat van deze kritieke doorbraak in silicium ets technologie, Van Toepassing Geweest zeer snelle vraag naar het systeem van AdvantEdge Mesa heeft ervaren. Meer dan 60 kamers hebben aan klanten in de laatste drie maanden verscheept - waar zij hulpmiddel-van-verslag voor 32nm spaanderproductie en 22nm ontwikkeling zijn.

De Toegepaste Materialen heeft hoge vraag naar zijn nieuwe Toegepaste Centura AdvantEdge Mesa etsen systeem toe te schrijven aan zijn revolutionair bronontwerp ervaren dat ångström-vlakke precisie aan de rand van het wafeltje levert.

De „Onze klanten' enthousiaste goedkeuring van het systeem van AdvantEdge Mesa illustreert de sterke unmet behoefte van de industrie aan technologie geschikt etst om high-density geheugenapparaten en energy-efficient microprocessors te vervaardigen,“ bovengenoemde Ellie Yieh, de collectieve ondervoorzitter en de algemene manager van Van Toepassing Geweest Etsen commerciële afdeling. „Door chipmakers van de behoefte te bevrijden om systematische niet-uniformiteitsbeperkingen te compenseren, kan het systeem Mesa een kritiek hulpmiddel zijn want het helpen van klanten kring krimpen voorkomt, de stroom van de controlelekkage en de hoge productieopbrengsten bereiken noodzakelijk om de slimme mobiele apparaten van de toekomst te bouwen.“

De Sleutel tot het systeem van AdvantEdge Mesa is zijn nieuw inductief-gekoppeld plasma (ICP) bronontwerp, dat het kenmerk „etst handtekening“ elimineert die de prestaties van alle vorige op ICP-Gebaseerde systemen heeft beperkt. De ICP van Mesa bron verstrekt een echt vlak, eenvormig profiel, uit toelatend nauwkeurige overdracht van lithografiepatronen aan de extreme rand van het wafeltje om matrijzenopbrengst beduidend te verhogen. Gericht voor kritieke ondiepe geulisolatie, etsen de begraven bit en woordlijnen, en het dubbele het vormen silicium toepassingen, leveren de de best-in-klassenprestaties van het systeem van AdvantEdge Mesa 1% etsen diepte niet-uniformiteit, sub-nanometerCD uniformiteit, en de hoogste beschikbare wafeltjeproductie.

De Toegepaste grote geïnstalleerde basis van bestaande systemen AdvantEdge kan met technologie worden bevorderd Mesa die, apparatenmakers een vlotte verbeteringsweg voor veelvoudige apparatengeneraties gebruikend aanbiedt een bewezen platform.

Het systeem van AdvantEdge Mesa is één van verscheidene belangrijke technologieën die door Van Toepassing Geweest tijdens SEMICON het Westen 2010 in San Francisco worden aangekondigd.

Bron: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 12. January 2012 21:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit