新的 AdvantEdge Mesa 系统提供子毫微米 CD 均一

Published on July 13, 2010 at 3:56 AM

Applied Materials, Inc. 今天揭幕其创建的纳诺缩放比例电路功能新的应用的 Centura® AdvantEdge™ Mesa™系统用埃级的精确度在下一代微量、闪光和逻辑装置。

由于此重要突破在硅铭刻技术,适用体验非常对 AdvantEdge Mesa 系统的迅速需求。 超过 60 个房间运送了给客户在前三个月 - 他们是 32nm 筹码生产和 22nm 发展的地方工具记录。

应用的材料体验高要求其新的应用的 Centura AdvantEdge Mesa 铭刻系统的由于提供埃级的精确度到这个薄酥饼的边缘的其革命来源设计。

“我们的客户’热心采用 AdvantEdge Mesa 系统说明对铭刻技术的行业的严格的为满足的需要能够制造高密度存储设备,并且省能源的微处理器”,总经理说 Ellie Yieh、总公司副总统和应用的铭刻企业部门。 “通过摆脱芯片制造商从需要补尝系统的不一致限制, Mesa 系统可以是为帮助客户收缩电路功能的一个重要工具,控制当前损失和达到必要高生产的产量建立远期的巧妙的移动设备”。

AdvantEdge Mesa 系统的关键字是其新的引人耦合的等离子 (ICP)来源设计,消灭典型 “铭刻签名”限制了所有早先基于 ICP 的系统性能。 Mesa 的 ICP 来源提供一个正确地平面,统一配置文件,使石版印刷模式准确的调用到这个薄酥饼的极其边缘极大增加中断产量。 瞄准为重要浅沟槽隔离,被埋没的位和字线和双仿造的硅铭刻应用, AdvantEdge Mesa 系统的最在班的性能提供 1% 铭刻深度不一致、子毫微米 CD 的均一和最高的可用的薄酥饼处理量。

现有的 AdvantEdge 系统应用的大产品安装信息库可以升级与 Mesa 技术,提供设备制造商多个设备生成的一个平稳的升级路径使用一个证明的平台。

AdvantEdge Mesa 系统是应用宣布的几重要技术之一在 SEMICON 期间西部 2010年在旧金山。

来源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 12. January 2012 21:17

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