AdvantEdge Mesa的系統提供了新的亞納米 CD的均勻

Published on July 13, 2010 at 3:56 AM

應用材料公司今天宣布推出其新的應用森特拉® AdvantEdge™梅薩™創建與埃級精度在下一代DRAM,閃存和邏輯器件的納米級電路功能的系統。

這在矽片上蝕刻技術的重要突破,應用經歷了快速AdvantEdge Mesa的系統的需求。 60多名商會在過去 3個月向客戶發貨 - 他們是32納米的芯片生產和22nm發展的工具記錄。

應用材料公司已經經歷了其新的應用森特拉AdvantEdge Mesa的蝕刻系統由於其革命性源設計,提供晶圓邊緣埃級精度的高要求。

“行業的強大的蝕刻技術製造高密度內存設備和高效節能的微處理器的未滿足的需要我們客戶的的AdvantEdge Mesa的系統的熱情通過所示,”說艾莉燁,公司副總裁和應用材料公司蝕刻業務司總經理。 “中解放出來,從芯片製造商的需要,以彌補系統的非均勻性的限制,梅薩系統可以為幫助客戶縮小電路功能,控制漏電流,並實現高生產產量要建立未來的智能移動設備的關鍵工具“。

AdvantEdge Mesa的系統的關鍵是新的電感耦合等離子體(ICP)源的設計,從而消除了特徵的“蝕刻簽名”,限制了所有以前的ICP為基礎的系統的性能。梅薩的ICP源提供了一個真正的平面,統一配置,使精確的光刻圖案轉移到晶圓的極端邊緣顯著提高芯片成品率。關鍵的淺溝槽隔離,埋位和字線和雙圖案矽蝕刻應用為目標,在AdvantEdge Mesa的系統的最好的,在-類的性能提供了1%的蝕刻深度非均勻性,分,納米的CD均勻性,和的最高可用的晶圓吞吐量。

應用的大型安裝的現有 AdvantEdge系統的基礎,可以與梅薩技術升級,設備製造商提供多個設備使用經過驗證的平台幾代的順利升級。

AdvantEdge Mesa的系統是宣布在2010年在舊金山的SEMICON西被應用的幾個重要的技術之一。

來源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 25. October 2011 19:45

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit