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Carl Zeiss y SEMATECH Logran la Piedra Miliaria Dominante en Programa de la Litografía

Published on July 30, 2010 at 1:45 AM

SEMATECH y la división de Sistemas de la Metrología (SMS) del Semiconductor de Carl Zeiss anunciaron hoy que sistema de la inscripción del photomask de la siguiente-generación de Zeiss el' y de la metrología del papel ha pasado con éxito una piedra miliaria dominante del revelado.

El sistema en común desarrollado - PROVE™ llamado - demostró la capacidad de la medición para los photomasks avanzados para el nodo de 32 nanómetro y abajo. En una serie de pruebas, los pliegos de condiciones dominantes -- 0,5 repetibilidades del nanómetro y exactitudes de 1,0 nanómetro en la colocación de la imagen, la inscripción y la medición cubierta -- fueron verificados.

“Las estructuras del proyecto de la herramienta de la metrología de la colocación del modelo de máscara sobre una sociedad ya acertada entre Carl Zeiss SMS y SEMATECH para el pasado trabajan en las plataformas Antenas de la herramienta de los Sistemas de la Metrología de la Imagen de la máscara (AIMS™). La sociedad ha dado lugar a una herramienta de trabajo de la metrología que está resolviendo los pliegos de condiciones para la repetibilidad, la reproductibilidad, y la exactitud en el nodo del mitad-tono de 32 nanómetro,” dijo el Arroz de Bryan, director de la litografía en SEMATECH. “La industria ahora tiene la capacidad para determinar desvíos más pequeños de la colocación de la imagen que podría ser medido antes. Lograr estos pliegos de condiciones es una piedra miliaria importante hacia la activação del Mapa Itinerario Internacional de la Tecnología para los requisitos de la máscara de los Semiconductores (ITRS) para el nodo de 32 nanómetro y abajo. Esta ejecución ayudará a avance el revelado de photomasks con requisitos más apretados del papel, exigido por los dispositivos de memoria y los métodos que modelan dobles.”

Las metas de funcionamiento de la herramienta fueron impulsadas por los requisitos para la memoria avanzada y la colocación que modelaba y el papel de la exposición doble/del modelo de máscara del doble que ayudarán a ampliar la litografía 193nm según el ITRS.

“Lograr el pliego de condiciones de funcionamiento del sistema de PROVE™ es una piedra miliaria importante en el proyecto y crucial para nuestros clientes en la máscara que hace industria. El sistema se basa en totalmente una nueva plataforma desarrollada activando el en-dado y la metrología de la colocación del modelo del sub-nanómetro de una manera más versátil. Las mediciones se pueden hacer en características arbitrarias de la producción en el área activa del photomask para la metrología eficiente exacta y del costo y son extensibles a la tecnología de EUV,” dijo al Dr. Oliverio Kienzle, Director de Gerente de Carl Zeiss SMS. “Ahora salida el producto de PROVE™ con salidas a nuestros clientes.”

Esta tecnología representa una mejoría importante sobre la capacidad anterior debida sobre todo a la incorporación de la óptica de alta resolución de la proyección de imagen de la longitud de onda 193nm, un iluminador flexible que maximice contraste de la imagen, un algoritmo altamente versátil del análisis de la inscripción del en-dado, y una plataforma avanzada de la metrología. El sistema se puede extender completo para medir photomasks de EUV. La herramienta desempeñará un papel vital en la activação de tecnología de máscara-fabricación de la generación siguiente.

El Programa de la Litografía de SEMATECH está llevando la industria en proporcionar a la información crítica sobre y a soluciones a la corriente y a los sistemas emergentes de la litografía.

A personas de la evaluación de las compañías de los fabricantes de la máscara eligió a Carl Zeiss para desarrollar el sistema en abril de 2007 y de la pieza de SEMATECH. Oferta de Carl Zeiss la' incluyó un diseño nuevo permitiendo que los fabricantes de la máscara midan la desviación de la posición de las características del photomask con la alta precisión y la exactitud. Desde entonces Carl Zeiss y los representantes técnicos de SEMATECH partnered para desarrollar el concepto en una herramienta de trabajo de la metrología.

Fuente: http://www.sematech.org/

Last Update: 12. January 2012 06:59

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