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卡尔蔡司和SEMATECH联盟实现光刻计划的一个重要里程碑

Published on July 30, 2010 at 1:45 AM

SEMATECH和半导体计量系统(SMS)从卡尔蔡司司今天宣布,蔡司“下一代光掩膜登记和覆盖计量系统已成功地通过了一个重要的发展里程碑。

联合开发的系统 - 所谓被证明™ - 展示32纳米节点的先进的光掩膜的测量能力和下面。在一系列的测试运行,主要规格 - 0.5纳米的重复性和1.0纳米精度的图像位置,登记和覆盖测量 - 验证。

“掩模图形放置计量工具项目建立后,已经成功地为面具的航空影像测量系统(AIMS™)工具平台过去的工作伙伴关系之间的卡尔蔡司短信和SEMATECH联盟。布赖恩水稻,光刻主任在SEMATECH联盟的伙伴关系,说:“在一个工作会议在32纳米半间距节点的计量工具,重复性,再现性和准确性的规格。 “这个行业现在的能力,以确定较小的图像位置可以测量前的错误。实现这些规范是一个走向,使半导体(ITRS)的32纳米节点及以下的屏蔽要求国际技术路线图的一个重要里程碑。这一成就将有助于推动发展的光掩膜,存储设备和双重图形方法覆盖要求更严格的要求。“

该工具的性能指标均得益于先进的内存和双重曝光/双重图形的掩模图形的位置和覆盖,这将有助于延长193纳米光刻技术的ITRS的要求。

“为了实现被证明™系统的性能规格,是在该项目中的重要里程碑,为我们的客户的关键行业的面具。该系统是基于一个全新的开发平台能够在最通用的方式在芯片和亚纳米模式安置计量。奥利弗KIENZLE博士,董事总经理卡尔蔡司短信,说:“测量可以做到有效面积的准确和成本效益计量光罩任意生产特点,并扩展到EUV技术。他说:“我们现在将转出的证明,我们的客户交付™产品。”

该技术代表了比以前的能力,这主要是由于纳入高分辨率193nm的波长成像光学,灵活的照明,最大限度地提高图像的对比度,在死亡登记分析算法,和一个国家的最先进的一种高度通用的显著改善计量平台。该系统可充分扩展来衡量的EUV光掩膜。该工具将发挥至关重要的作用,使下一代的光罩制造技术。

SEMATECH的光刻技术项目是在当前和新兴的光刻系统提供关键的信息和解决方案的行业领先。

卡尔蔡司是选择发展掩膜制造商和SEMATECH联盟成员公司的一个评估小组在2007年4月的系统。卡尔蔡司“的建议包括一个新颖的设计,让面膜制造商,具有高的精度和准确度的光掩膜功能的测量位置偏差。自那时以来,卡尔蔡司和SEMATECH联盟工程师合作,发展成为一个工作的计量工具概念。

来源: http://www.sematech.org/

Last Update: 5. October 2011 11:38

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