Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Save 20% On a Jenway 7315 Spectrophotometer from Bibby Scientific
Posted in | Nanoanalysis | Nanobusiness

Eulitha Introducerar Djupt Etsade Gallrar för SpektroskopiApplikationer

Published on August 13, 2010 at 2:28 AM

Överföringsdiffractiongallrar krävs i många forskning, och utveckling projekterar liksom karakterisering av ljusa källor för EUV, eller spektroskopiexperiment i EUVEN spänner.

På grund av kickabsorbering vid alla material i detta spektral- spänna (ungefärligt 5-20 nm) gallrarna måste göras på tunna membran, och slitsna bör ha försumbar absorbering. Ha longstanding erfara i fabriceringen av EUV-överföringsgallrar som Eulitha erbjuder nu djupt etsade gallrar för spektroskopiapplikationer.

SEM 2000 avbildar av ett 1mm periodgaller som etsas in i ett silikonnitridemembran. Tvärsnittet av detta galler visas i inlägg.

Gallrarna planläggs enligt kundspecifikationer, storleksanpassar e.g, linewidth och den gnissla graden. Den mekaniska stabiliteten och hållbarheten av membranen ses till av ett extremt tunt (Ca. 20nm) lagrar av silikonnitriden som lämnas unetched i slitsna, och en tvärslå strukturerar. Vårt mogna bearbetar, och sakkunskap, i att bearbeta de extremt bräckliga membranen, möjliggör oss för att erbjuda högkvalitativa gallrar på som man har råd med prissätter.

Eulitha är en banbrytare och en ledare i produktion av högkvalitativa nanostructures genom att använda avancerade lithographytekniker. Vi erbjuder specialtillverkat, och standardiserade nanostructures med upplösning som fördjupa, besegrar till regionen för sub-20 nm.

Eulithas fabricering för periodiska nanostructures baseras på dess rekord-brytande för Störningslithography EUV-IL för Ytterligheten Ultravioletta teknologi. Metodbruket tänder på en våglängd av omkring 13 nm. Eulitha fabricerar en-dimensionella linjära gallrar, och tvådimensionellt pricka samlingar eller raster vid EUV-IL

Källa: Eulitha

Last Update: 26. January 2012 11:10

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit