La Salida de Primero PRUEBA el Sistema del Photomask Que Ofrece las 193 Ópticas del nanómetro

Published on August 13, 2010 at 3:56 AM

Carl Zeiss señala la salida del primer Sistema de la Inscripción de PROVE™ y de la Metrología del Papel para los photomasks a la Tecnología de NuFlare, el surtidor de cabeza del mundo de maskwriters basados e-haz. Es el saque de centro para una serie de salidas en los meses próximos.

Después de tres años de tiempo de revelado el primer sistema de PROVE™ pasajero con éxito la aceptación de fábrica y fue expidido a NuFlare/a Japón. PROVE™ se diseña para medir la colocación de la imagen y la dimensión crítica en photomasks con repetibilidad y exactitud del sub-nanómetro. El sistema desarrollado recientemente distingue con sus 193 ópticas del nanómetro con la resolución superior. “Estamos satisfechos recibir la primera herramienta de la inscripción de Carl Zeiss. La resolución excelente y la precisión sin precedente de la medición de PROVE™ son inevitables desarrollar y optimizar a nuestros últimos programas de escritura de la máscara del e-haz de la generación y nos permiten acelerar nuestro propio mapa itinerario de la herramienta, los “estados Fumiaki Shigemitsu, Director de la Tecnología de NuFlare.

Para Carl Zeiss el sistema de nueva inscripción termina perfectamente la cartera de la metrología de la máscara, de la revista y de las herramientas de la reparación. “La primera salida de un sistema de PROVE™ es una piedra miliaria importante en el proyecto. Con NuFlare como primero cliente podemos establecer un cierre ligamos entre la últimos medición de la inscripción de la generación y programas de escritura de la máscara del e-haz. Los fabricantes de la Máscara y los fabs del fulminante se beneficiarán importante de las máscaras resultantes con desvíos de inscripción más inferiores,” explican al Dr. Oliverio Kienzle, Director de Gerente de la división de Sistemas de la Metrología del Semiconductor de Carl Zeiss.

El sistema

El Componente clave de PROVE™ es la difracción limitada, la óptica de alta resolución de la proyección de imagen operatoria en 193 nanómetro - correspondiente a la metrología de la en-longitud de onda para la mayoría de aplicaciones del photomask de la corriente y de los futuros. Proporciona a la iluminación flexible para la proyección de imagen máxima del contraste y activa análisis de la colocación del modelo del “en-dado” en modelo de la producción.

El concepto abierto así como el uso de la longitud de onda de 193 nanómetro activa un NA más alto para las aplicaciones pellicle-libres, incluyendo máscaras ultravioletas (EUV) extremas.

Fuente: http://www.smt.zeiss.com/

Last Update: 12. January 2012 04:56

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