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发运首先证明以 193 毫微米光学为特色的光掩膜系统

Published on August 13, 2010 at 3:56 AM

卡尔蔡司第一个 PROVE™注册和重叠计量学系统的发运光掩膜的向 NuFlare 技术报告, e 射线基于 maskwriters 的世界领先的供应商。 它是一系列的发运的开球在即将发布的月。

在三年以后研制时间顺利地通过工厂认可的第一个 PROVE™系统和被发运了到 NuFlare/日本。 PROVE™被设计评定图象位置和重要维数在光掩膜与子毫微米反复性和准确性。 这个新开发的系统通过其与优越解决方法的 193 毫微米光学区分。 “我们高兴地接受第一个卡尔蔡司注册工具。 非常好的解决方法和 PROVE™史无前例的评定精确度是不可避免开发和优选我们的最新的生成 e 射线屏蔽作家并且使我们加速我们自己的工具模式, “状态文秋 Shigemitsu, NuFlare 技术的主任。

对于卡尔蔡司新记录系统完全完成屏蔽计量学、复核和维修服务工具投资组合。 “PROVE™系统的第一发运是在这个项目的一个重要重要事件。 NuFlare 作为客户我们可以首先设立关闭交互相联在最新的生成注册评定和 e 射线屏蔽作家之间。 屏蔽制造商和薄酥饼 fabs 将极大受益于与更低的注册错误的发生的屏蔽”,解释奥利佛史东 Kienzle,卡尔蔡司的半导体计量学系统部的总经理博士。

系统

PROVE™关键部件是运行在 193 毫微米的衍射极限,高分辨率想象光学 - 与大部分的在波长计量学相应现在和未来光掩膜应用。 它为最大对比想象提供灵活的照明并且启用 “制片人”模式在生产模式的位置分析。

与使用的开放概念 193 毫微米波长一起启用 pellicle 自由的应用的更加高级的 NA,包括极其紫外 (EUV)屏蔽。

来源: http://www.smt.zeiss.com/

Last Update: 12. January 2012 05:14

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