Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Новая Конформная Технология Низложения Фильма от Систем Novellus Идеально для Приборов Sub-32nm

Published on August 17, 2010 at 2:27 AM

Системы Novellus (NASDAQ: NVLS) объявленное сегодня что оно начал конформную технологию низложения фильма (CFD™) на депозировать фильмы охвата шага 100 процентов диэлектрические на структурах с коэффициентами сжатия до 4: 1.

Новаторские требования к адресов sub-32nm технологии CFD для передн-конц--линии (FEOL) применений как вкладыши и прокладки строба, вкладыши строба металла отмелой изоляции шанца (HKMG) высокие-k, и прокладки используемые для двойных делая по образцу применений. Фильмы окиси CFD Novellus обладают качеством и составом соответствующими к термальным фильмам окиси, включая низкую утечку, высокое напряжение тока нервного расстройства, и низко мочат тариф etch.

Охват шага окиси CFD в двойн-делая по образцу применении

Изменчивость в размерах транзистора sub-32 nm важнейшая область фокуса индустрии должная к удару на представлении прибора. Новые, сильно конформные фильмы прокладки были начаты для того чтобы контролировать эти критические размеры через вафлю. Пока интегрированная метрология и предварительные методы управления производственным процессом могут уменьшить изменчивость вафл-к-вафли и сери-к-серии в размерах прокладки, изменчивость в пределах-вафли проконтролирована технологией используемой для того чтобы депозировать фильм прокладки. Сверх Того, слоям диэлектрика используемым для этих фильмов прокладки нужно быть депозированным на температурах которые низко достаточно уменьшить диффузию dopant.

Novellus начинало технологию CFD которая депозирует сильно конформные фильмы для применений FEOL которые соотвествуют качества и низкой температуры приборов sub-32nm. На Диаграмму 1A показано 100 процентов conformality фильмов окиси CFD депозированных на структурах FEOL 0Nс увеличением коэффициентами сжатия. Спектр FTIR в Диаграмме 1B показывает сильное сходство между фильмом окиси CFD депозированным на 400°C и, котор печ-росли термальной окисью. График inset настоящ-напряжения тока показывает высокое поведение представления нервного расстройства фильма CFD. Furthermore, анализ показывал тому качество фильма на спичках стенки которые в поле. По сравнению с конкурсными фильмами прокладки депозированными используя атомный процесс низложения слоя, технология CFD Novellus сочетание из и multi-станция ВЕКТОРА зодчество низложения (MSSD) последовательное поставляют главную в пределах-вафлю и повторимость вафл-к-вафли, с значительно более высоким объём и более низким химическим потреблением.

С задержкой в Весьма UV литографировании (EUV), индустрия полупроводника поворачивает к прокладк-основанным двойным делая по образцу схемам для приборов памяти sub-3X nm и логики sub-2X nm. Самые рентабельные двойные делая по образцу схемы используют сердечник фоторезиста следовать фильмом прокладки с 100 процентами охвата шага. Фильмы прокладки должны быть депозированы используя температуры и химии которые совместимы с материалами фоторезиста. Фильмам Прокладки используемым в двойной делая по образцу схеме нужно продемонстрировать превосходный conformality без влияний нагрузки которые причиняют линию «,» или/и поставляют единообразие выдающей в пределах-вафли делая по образцу.

Фильмы CFD Novellus новаторские можно депозировать на температурах субстрата чем 50°C, и поэтому совместимы при предварительные фоторезисты используемые в двойных делая по образцу схемах. Показано что на Диаграмму 2A охват шага 100 процентов фильма CFD над структурой фоторезиста без влияния нагрузки на класть в основу сопротивляет. На Диаграмму 2B показано что ряд толщины фильма CFD чем 0,2 процента, которое переводит меньш чем один ангстром на типичной плотной пленке 300 ангстромов, требование для предварительный делать по образцу на 32nm и за пределами.

«Технология CFD предлагает прорыв в низложении фильмов низкой температуры диэлектрических с качеством соответствующим к низложению печи,» сказал Кевина Jennings, старший вице-президент Организационной единицы PECVD Novellus. «По Мере Того Как размеры прибора сжимают за 32nm, фильмы депозированные используя технологию CFD необходимы для множественных приложений. Способность депозировать эти фильмы на надежной, продукци-доказанной платформе ВЕКТОРА обеспечивает главную в пределах-вафлю и повторимость вафл-к-вафли, с значительно более высоким объём и более низкими химическими ценами.»

Источник: http://ir.novellus.com/

Last Update: 12. January 2012 21:38

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit