Новая Система Eterna FCVD от Прикладных Материалов для Обломоков Логики 20nm

Published on August 25, 2010 at 2:16 AM

Прикладной Материалы, Inc. сегодня объявил свою систему Producer® Eterna™ FCVD™ прорыва Прикладную (Flowable CVD1), первое и только технологию низложения фильма способные электрически изолировать плотн-упакованные транзисторы в дизайнах микросхемы памяти 20nm-and-below и логики с высокомарочным диэлектрическим фильмом.

Зазоры между этими транзисторами могут иметь коэффициенты сжатия больше чем 30:1 - 5 требований к времен более высоко чем настоящих - и высок-сложные профили. Процесс системы Eterna FCVD уникально вполне заполняет эти зазоры от дна вверх, поставляющ плотный, углерод-свободный диэлектрический фильм на до половине цены закрутк-на методов низложения - которые требуют больше оборудования и много дополнительных отростчатых шагов.

Прикладные Материалы вводят свою систему Eterna FCVD прорыва, первое и только технологию способные депозировать высокомарочный диэлектрический фильм между плотн-упакованными транзисторами в 20nm и под обломоками памяти и логики.

«Потребность заполнить более малые и более глубокие структуры в предварительных дизайнах микросхемы создает физический барьер для существующих технологий низложения. Прикладной ломает через этот барьер сегодня с введением своей новой системы Eterna FCVD - поставляющ разрушительную технологию которая может включить продолжаемый прогресс Закона Moore,» сказал Билл McClintock, недостаток - президент и генеральный директор Организационной Единицы DSM/CMP2 Applied's. «С системой Eterna FCVD, Прикладной продолжает свое декад-длиннее водительство в разрешение технологии зазор-заполнения, обеспечивая уникально, упрощенное и рентабельное для клиентов для того чтобы соотвествовать множественных новых поколений обломока.»

Процесс Eterna FCVD Applied's собственнический поставляет a жидкост-как фильм который подачи свободно в фактически любую форму структуры для того чтобы обеспечить дно вверх, пуст-свободное заполнение. Система Eterna FCVD установлена на 6 местоположения клиента для применений ДРАХМЫ, Вспышки и Логики, где она интегрирована на платформе Производителя отметки уровня Applied's.

Источник: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 12. January 2012 20:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit