Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Beneq Поставляет Частицу ALD к Центру de Вычурный Публике - Габриэлю Lippmann

Published on September 2, 2010 at 4:08 AM

После объявления в Джун этот год сотрудничества между Beneq и ALD NanoSolutions, Beneq самолюбив показать что первая система для Частицы ALD будет поставлена к Центру de Вычурный Публике - Габриэлю Lippmann в Луксембурге.

В словах Tommi Vainio, Beneq CTO: «Этот подряд ясно доказывает что потребность для новаторских подходов к покрывать, тонкие фильмы и промышленные применения устойчиво растет. В добавлении, он твердо поддерживает стратегию принятую Beneq приносить романные разрешения покрытия к рынку и создавать возможности для наших клиентов».

Др. Lenoble от CRP - Габриэль Lippmann говорит: «Эта новая система ALD от Beneq включит весь новый подход к применениям мы работали на, включая автомобильное, сбережения энергии, катализирование и выдвинутые биоматериалы. Мы очень довольный которые Частице ALD, поистине unmapped дисциплина в промышленном ALD, делала доступной для того чтобы исследовать в этом путе. Мы видим непревзойдённые возможности создать индустри-масштабируемые предварительные применения от этой романной системы Частицы ALD».

О Beneq

Beneq Oy, основанное в Финляндии, поставщик технологии оборудования и покрытия для мировых рынков. Beneq поворачивает рационализаторства в успех путем развивать применения и оборудование для полей cleantech и возобновляющей энергии, специально в рынках стекла, солнечных и вытекать тонкого фильма. Применения Покрытия включают оптику, барьеры и слои запассивированности, так же, как поколение и консервацию энергии. Beneq также предлагает полные обслуживания покрытия. Применения покрытия Beneq основаны на 2 позволяя платформах нанотехнологии: Атомное Низложение Слоя (ALD) и покрытие аэрозоля (nHALO® и nAERO®).

О Центре de Вычурный Публике - Габриэле Lippmann

CRP - Габриэль Lippmann общественная установка посвященная к прикладной научному исследованию и технологическому развитию, так же, как тренировке передачи технологии и постоянных высокопоставленный. Центр, с над 190 научными работниками исследования, фокусирует на 4 главных осях: новаторские материалы, в частности нанотехнологии и целесообразное развитие с предварительной характеризацией, устойчивое управление природных ресурсов и agro-биотехнологий, технологии информационного общества и автомобильное оборудование.

О ALD NanoSolutions

Как руководитель в цифровых разрешениях покрытия для композиционных материалов, ALD NanoSolutions (ALDN) предназначено к приносить проведение следующего поколени к материалам используемым через широкий диапазон индустрий. Полет ALDN ускорить ход коммерчески успеха своих клиентов путем поставлять главные разрешения материалов основанные на своей собственнической атомной платформе низложения слоя.

Last Update: 12. January 2012 20:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit