应用纳米技术开发下一代离子束加速器的碳箔下SBIR二期奖

Published on September 9, 2010 at 2:57 AM

应用纳米技术控股公司(OTCBB:APNT)很高兴地宣布,它已被通知,它已被选定为SBIR二期奖,开发的新一代碳离子束加速器箔。该奖项的金额是大约750,000美元。

有一个大面积,强大的,统一的,低成本的碳箔,可用于在这些新一代的离子束加速器和APNT的石墨烯为基础的技术方法是适合这种应用的强烈需求。 APNT与阿贡国家实验室和美国密歇根州立大学合作,开发和表征碳纳米材料的箔这个应用程序。这项技术还具有潜在的工业用,医疗和工业应用中使用粒子加速器中的热管理,生物材料和其他材料以及。

兹维Yaniv博士,应用纳米技术公司的首席执行官说,“这是另一个例子应用,如碳纳米管和石墨,纳米碳阶段我们积累的经验和知识,以确定新的商业机会,”公司“石墨是高利益我们,因为我们在该领域拥有强大的知识产权,如我们的美国专利6819034,描述应用的石墨碳片的形式,早在2000年8月21日,申请日期,因为石墨变得更为广泛在电子产品中使用。“

“这份合同将添加到我们已经强大的科研收入,这是实现盈利的关键积压,说:”道贝克APNT首席执行官。 “正如我们靠拢,我们在2010年实现盈利的目标,重要的是,我们将继续运用我们的专业知识技术的应用范围,包括那些短期内商业化的可能性,这将会建立一个对​​未来商业化的可能性的基础“。

来源: http://www.appliednanotech.net/

Last Update: 4. October 2011 06:16

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