Toppan 인쇄는 22nm와 20nm 장치를 위한 새로운 Photomask 프로세스를 개발합니다

Published on September 10, 2010 at 7:37 AM

Co., 주식 회사 인쇄 Toppan는 오늘 22nm와 20nm 반도체 소자 생산을 지원하기 위하여 Asaka, 일본에 있는 그것 시설에 photomask 제조공정을, 개발했다는 것을 알렸습니다.

이 프로세스는 Toppan의 IBM와 가진 전진하는 합동개발 계획사업을 통해 개발되었습니다. Toppan는 앞 가장자리 반도체 제조 고객을 위한 22nm와 20nm photomask prototyping 뿐 아니라 생산을 지원하게 준비되어 있습니다.

반도체에는 원거리 통신 장치와 높게 복잡한 다기능 디지털 소비자 전자 제품을 위한 성장 수요 된 점점 정교한 때문에 있습니다. 그 같은 향상된 반도체에는 및 더 값이 싼 더 나은 성과가, 낮은 전력 소비 있을 것으로 예상됩니다. Photomasks는 그 요구에 응하는 반도체 생성에 있는 중요한 역할을 합니다. Toppan에서 새로운 photomask 프로세스는 차세대 기술을 위한 반도체의 생산을 가속하는 것을 도울 것입니다.

photomasks가 더 복잡하게 되더라도, IBM Toppan Photomask 합동개발 계획사업은 동쪽 Fishkill 및 올바니, 뉴욕에 있는 IBM 웨이퍼 기술 팀으로 또한 중요한 발달 비용 savings를 달성하고 있는 동안, photomask 기술을 강화하기 위하여 공저했습니다. 최신 photomask 기술 해결책은 향상된 두 배 193nm 파장 아르곤 불화물 (ArF) 침수 (SMO) 광학 석판인쇄술의 기능을 확장하는 모방 및 근원 가면 optimization1 해결책을 위한 웨이퍼 필수품을 수용합니다. EUV와 그밖 차세대 석판인쇄술 기술에 집중되는 주의, 22nm를 위한 제조 준비되어 있는 해결책의 납품에 이 대안 존재하는 중요한 도전 및 20nm 마디에도 불구하고.

글로벌 반도체 생태계를 지원하기 위하여는, photomask 기술은 웨이퍼 계획 앞서서 남아 있고 더 나은 기능을 제공해야 합니다. 이것 달성의 1개의 방법은 비발한 가면 물자 및 관련되는 photomask 프로세스 통합의 발달을 통해 웨이퍼 성과를 강화하기 위한 것입니다. 향상된 photomask와 웨이퍼 성과를 위한 유리제 물자 (OMOG)에 새롭고, 더 얇은 불투명한 MoSi는 개발되었습니다. 실현된 photomask 이점은 향상한 편평함, 보다 적게 프로세스 유도한 패턴 배치 변경, 증가한 정리 내구성, 더 나은 해결책 및 우량한 심상 균등성입니다.

웨이퍼 인쇄를 위한 얇은 OMOG에 의해 가능하게 된 개선은 훨씬 혁명적입니다. 얇은 OMOG와 관련되었던 감소된 지세는 더 작은 전자장 bias2, 향상한 웨이퍼 manufacturability 및 감소된 가면 패턴 제한을 허용합니다. 편한 가면 패턴 제한 증가 이하 해결책 지원과 구석 에 구석 간격과 같은 주요 특징에 광학적인 근접 개정 융통성. 우량한 전반적인 석판인쇄술 성과는 가면 개선과 웨이퍼 인쇄 이득의 조합을 통해 장악될 수 있습니다.

이 새로운 photomask 기술의 세부사항은 2010 SPIE Photomask 기술 회의, 몬트레이, 캘리포니아에서 9월 13-16일에 제출될 것입니다.

"이 공고 성공에 있는 중요한 공정표를 표시합니다, Toppan와 IBM 사이 다년간 합동개발 협력,"는 게리 Patton를 IBM 반도체 연구 & 개발 센터의 부사장 말했습니다. "Photomasks 반도체 제조를 위한 기술을 가능하게 하기에 중대하, 함께 우리의 2명의 회사는."는 22nm와 더 작은 장치의 발달, 양 생산 및 시간 에 시장을 속력을 내는 것을 도울 수 있는 향상된 가면 제조 기술을 전달했습니다

"Toppan와 IBM 사이 협조적인 일 다른 photomask 기술 혁신을 오늘 달성했습니다,"는 전자공학 부의 Toshiro Masuda, 부의장 및 Toppan 인쇄의 전무 이사를 말했습니다. "Toppan 반도체 산업의 기동전개에 기여하기 위하여 이 새로 개발한 photomask 프로세스를 레버리지를 도입해서 우리의 반도체 제조 고객을 지원하는 것을 계속할 것입니다."는

근원: http://www.toppan.co.jp/

Last Update: 12. January 2012 03:17

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