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Carl Zeiss-Produkteinführungs-Neues Fotomasken-Registriersystem

Published on September 13, 2010 at 3:42 AM

Carl Zeiss stellt seine PROVE™-Registrierungs-und Überlagerungs-Metrologie-Anlage für Fotomasken bei der SPIE-Fotomasken-Konferenz in der Maßnahme-Bildplatzierung Monterey/CA PROVE™ auf Fotomasken mit der überlegenen Auflösung vor, welche die schwierigen Bedingungen des Knotenpunktes der Technologie 32nm und jenseits erfüllt.

Weitere Ausdehnung der Lithographie 193nm zu den folgenden Technologieknotenpunkten durch das Vorstellen von starken optischen Näherungskorrekturen und das doppelte Kopieren benötigt neue Konzepte für Fotomaskenregistrierung und Überlagerungsmetrologie.

Neu PRÜFEN Sie Fotomasken-Registrierungs-und Überlagerungs-Metrologie-Anlage

Mit seinem beugungsbegrenzten erschließen das Darstellungs-Optikarbeiten der hohen Auflösung an der lithographischen relevanten Wellenlänge 193nm die neue PROVE™-Anlage völlig neue Perspektiven in der Registrierungsmetrologie. PROVE™ lässt Maß der kleinsten Produktionsmerkmale zu, ohne Passkreuze zu legen. „Diese wirkliche Inform Registrierungsmetrologie ist ein enormer Nutzen für unsere Abnehmer in der Masken-Herstellung. Zum ersten Mal in der Geschichte, sind Maskenhersteller in der Lage, Registrierung zu messen und zu analysieren, in der sie wirklich von Bedeutung ist. Zusätzlich bei Zunahme der Auflösung verlangt z.B. nach EUV-Lithographie, können wir unsere Hilfsmittelfähigkeiten auf die bevorstehenden Technologieknotenpunkte ausdehnen.“ erklärt Dr. Oliver Kienzle, Direktor der Halbleiter-Metrologie-Anlagen-Abteilung von Carl Zeiss SMT.

Die eigene Strategie der automatischen Scharfeinstellung und der Kalibrierung der neuen Anlage aktiviert eine Wiederholbarkeit von unter 0.5nm und eine Genauigkeit von unter 1nm für beste Registrierungsmaßleistung.

Sogar in der Herstellung von Maskenverfassern wird die PROVE™-Anlage verwendet, um die Mustergeneratoren zu justieren, um Musterplatzierungsergebnisse zu verbessern und Ausrichtfehler auf Fotomasken herabzusetzen. Vor Kurzem Carl Zeiss, der über den Versand des ersten Hilfsmittels NuFlare Technology Inc., die Welten führen Lieferanten des Eträgers berichtet wurde, basierte Maskenverfasser.

Die folgende Anlage zu einem Masken-Systemsabnehmer wird am Ende von diesen Monat entbunden.

Am 13. September 2010 Bekannt gegeben

Last Update: 12. January 2012 20:05

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