Sistema de Inscripción del Photomask de los Lanzamientos de Carl Zeiss Nuevo

Published on September 13, 2010 at 3:42 AM

Carl Zeiss introduce su Sistema de la Inscripción de PROVE™ y de la Metrología del Papel para los photomasks en la Conferencia del Photomask de SPIE en la colocación de la imagen de las dimensiones de Monterey/CA PROVE™ en photomasks con la resolución superior que cumple los requisitos desafiadores del nodo de la tecnología 32nm y más allá.

La extensión Adicional de la litografía 193nm a los nodos siguientes de la tecnología introduciendo correcciones ópticas fuertes de la proximidad y modelar doble requiere las nuevas aproximaciones para la inscripción del photomask y la metrología del papel.

Nuevo PRUEBE el Sistema de la Inscripción del Photomask y de la Metrología del Papel

Con su difracción limitada, el trabajo óptico de la proyección de imagen de alta resolución en la longitud de onda relevante litográfica 193nm el nuevo sistema de PROVE™ abre totalmente nuevas perspectivas en metrología de la inscripción. PROVE™ permite la medición de las características más pequeñas de la producción sin poner marcas de inscripción. “Esta metrología real de la inscripción del en-dado es una ventaja enorme para nuestros clientes en la Fabricación de la Máscara. Por primera vez en historia, los fabricantes de la máscara pueden medir y analizar la inscripción donde importa realmente. , Con el aumento de la resolución exige e.g para la litografía de EUV, podemos ampliar Además nuestras capacidades de la herramienta a los nodos próximos de la tecnología.” explica al Dr. Oliverio Kienzle, Director de Gerente de la División de Sistemas de la Metrología del Semiconductor de Carl Zeiss SMT.

La estrategia propietaria del autofocus y de la calibración del nuevo sistema activa una repetibilidad debajo de 0.5nm y una exactitud debajo de 1nm para el mejor funcionamiento de la medición de la inscripción.

Incluso en la fabricación de los programas de escritura de la máscara el sistema de PROVE™ se utiliza para sintonizar los generadores de modelo para mejorar resultados de la colocación del modelo y para disminuir desvíos de inscripción en photomasks. Recientemente Carl Zeiss señalado sobre la remesa de la primera herramienta a NuFlare Technology Inc., los mundos que llevaban al surtidor del e-haz basó a programas de escritura de la máscara.

El sistema siguiente a un cliente del Departamento de la Máscara será entregado a finales de este mes.

13 de septiembre de 2010 Asentado

Last Update: 12. January 2012 20:20

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